二手 ASML PAS 5500 / 750F #293817856 待售

ASML PAS 5500/ 750F是由半導體制造業技術領導者ASML開發的下一代無掩碼光刻晶片步進器。它是一種高端、全場、I線浸入式光刻設備，用於生產45納米及以下節點的IC圖樣。PAS 5500/ 750F具有許多高級功能,可確保最佳性能。它具有150納米NA、用於高NA成像性能的Ohara熔融二氧化矽塗層基板（FSCS）、750瓦激光和用於提高聚焦深度（DOF）的離軸照明。高NA和強大的照明有助於打印更高的分辨率和復雜的氛圍和孔在同一曝光。系統還具有縮放功能,可創建多種不同的字段大小,以適應從10mm x 10mm到200 mm x 200 mm的所有掩碼大小。ASML PAS 5500/ 750F配備了先進的成像技術，以確保卓越的模式放置精度和叠加性能。它能夠在200毫米晶圓級達到+/-5微米的最大覆蓋精度和+/-10微米的最大放置精度。它還具有高速光柵掃描模式、旋轉圖像平面（RIP）技術和運動校正單元。這些功能使機器能夠快速準確地掃描晶圓上的掩模功能。PAS 5500/ 750F旨在減少整個晶圓的缺陷。為了幫助減少基板載荷和卸載誤差，它有一個基於照相機的基板對準單元，允許晶片與軸精確對準。它還具有主動對齊工具，以幫助減少元素變形和錯位造成的缺陷。晶圓曝光光學器件還具有減少模式變化的功能，從而進一步保護晶圓免受汙染。ASML PAS 5500/ 750F能夠重復具有復雜幾何形狀的特征和特征,而不犧牲模式保真度和分辨率。它還具有可靠和低維護的激光源,允許以最少的維護來增加正常運行時間。此外,它的高級圖像處理套件還可以幫助識別由光學資產中的像差或振動引起的任何圖像失真。總之,PAS 5500/ 750F是一種先進的光刻模型,可創建更高分辨率的圖樣,具有更高的放置精度、叠加性能和圖樣保真度。它具有高NA、縮放功能、各種成像技術和主動對齊功能,可幫助確保最佳性能並減少缺陷。