二手 ASML PAS 5500 / 80 #293591386 待售

ASML PAS 5500/80是ASML采用雙裝甲頂框的基於步進掃描的高級投影光刻設備。它用於將精確的圖像投射到晶片基板上，通常用於制造半導體芯片。該系統通常具有一系列編碼掃描儀、光學元件、執行器和控制系統,允許執行超短、可重復的基於掃描的步驟。ASML PAS 5500/80系列中的光刻系統可提供高達1.5納米的分辨率,並且可以暴露最小光斑尺寸為30nm的表面。該單元配有40 nm分辨率相位板和ICOS 4.0 UV浸入式光刻技術機，可實現高通量和精確精度。此外,與許多其他系統不同,PAS5500/80系列提供了更高的速度、工藝優化和光刻精度。這些功能集成到95nm、80nm和65nm節點中。PAS 5500/80工具配備了多種光學元件和激光器，包括非球面透鏡、非球面反射鏡、分束器、二色濾波器和光柵。這些元件和激光器形成了高分辨率光學器件的集成組合，讓用戶實現了更好的模式定位，提高了線條和邊緣的能力，提高了分辨率的統一性。除光學元件和激光器外，ASML PAS5500/80系列還包括一個氦硼激光器和一個衍射受限的投影光學封裝。氦硼激光器允許廣泛的波長偏移，而衍射受限的投影光學包可以增加標線成像，同時減少光斑尺寸的像差和失真。PAS 5500/80資產還包含一個可以連接到計算機顯示屏的獨立操作員控制，以便更好地管理模型。此控制界面能夠提供閉環控制、連續階段掃描和對準,以及實現需要曝光的基板部分的旋轉、傾斜和聚焦。ASML PAS 5500/80系列的設計能夠容納300 mm和200 mm的基板，可以處理-40°C到+90°C的基板溫度。此外，設備還有一個雙視圖晶片位置編碼器，在基準搜索和對齊方面提供了非常準確的結果。綜上所述,ASML的ASML PAS 5500/80是一種最先進的晶圓步進器,能夠將精確的圖像投影到基板上以用於半導體制造。它設計有先進的光學和各種激光器，以及一個獨立的操作員控制，可以連接到計算機顯示器。PAS5500/80系列的光刻系統可提供高達1.5納米的分辨率,並且可以曝光最小光斑尺寸為30 nm的表面。