二手 ASML Twinscan AT 1150i #9112175 待售

ASML Twinscan AT 1150i是一種集成晶圓步進器，設計用於光掩模到晶圓光刻。它為最具挑戰性的光刻工藝提供了強大的光學元件、低擁有成本和廣泛的曝光能力。步進器配備了照明設備，能夠提供完全可編程的曝光場，允許各種光刻形式，如長光源、多級光掩模和高分辨率掩模。照明系統以DUV-optomechanical單元為基礎，可校正高達4階的像差，提供0.72的高數值孔徑（NA）和小至2.5微米的最小光斑尺寸。這臺高性能光學機器提供出色的分辨率和深度聚焦,使步進器能夠經濟高效地解決最先進的工藝難題。此外，Twinscan AT 1150i的光學工具能夠同時使用標準幹涉測量和先進的復雜模式識別技術來支持0.3微米的覆蓋精度。ASML Twinscan AT 1150i由多種關鍵系統組成,包括自動對準、微投影鏡頭、步進控制器、晶片掃描平臺和晶片級。自動對齊器可確保光刻過程中曝光輪廓的精確對齊。微型投影鏡頭能夠產生分辨率高達0.6微米的高質量圖像，而步進控制器則以高度優化的方式管理曝光分辨率和光線強度。晶片掃描平臺同時支持單掩碼和多掩碼曝光模式,從而實現高吞吐量和高重復性。最後，晶片級能夠提供晶片相對於遮罩和曝光窗的精確定位和對準。Twinscan AT 1150i具有強大的軟件套件,旨在為各種基板和晶圓尺寸提供自動化和優化的光刻工藝。該資產包括直觀的用戶友好軟件控制,使操作員能夠快速高效地執行流程修改。此步進器為各種光刻應用程序提供基於配方的預定義配方,從而允許在生產過程中快速實施。ASML Twinscan AT 1150i還具有直觀的診斷功能,使操作員能夠快速識別和解決光刻過程中的任何潛在問題。總而言之,Twinscan AT 1150i是一種先進的高性能晶片步進器,可提供各種先進的光刻選項,滿足最苛刻的應用需求。它具有強大的光學功能、強大的軟件控制和自動化的過程校準功能。該模型是經濟高效的光刻工藝的理想解決方案。