二手 ASML TWINSCAN XT 1700FI #293603594 待售

ASML TWINSCAN XT 1700FI是一種用於制造集成電路的光刻設備。該系統用於在半導體晶圓上曝光圖樣。它采用193納米KrF激光光源來曝光晶圓和半導體上的圖樣。該單元基於晶圓步進平臺，由曝光室、曝光頭和軌道組成。曝光頭包括激光照明器、投影光學器件和掃描儀。激光照明器發出一束狹窄的光束，聚焦在投影光學器件上的晶圓上。然後，掃描儀將晶片水平移動穿過激光束，並將圖樣暴露在晶片上。ASML TWINSCAN XT:1700FI是業界性能最高的掃描儀之一,能夠提供高達340 mm/s的曝光速度。它具有納米級精度，分辨率為0.06微米，在曝光場上均勻性增強。曝光頭具有16個放大倍率選項和可編程光圈機,使客戶能夠實現比以前更高的吞吐量和更均勻的薄膜。其先進的冷卻、小占地面積和可調節的靜電場都進一步促進了該工具的卓越曝光性能。除掃描儀外,TWINSCAN XT 1700FI還提供各種其他功能,可改善用戶體驗並降低擁有成本。其集成的晶圓處理資產允許自動晶圓處理，從而減少了操作員的人工。其內置的載荷/卸載模型消除了對單獨載荷站的需求，消除了成本和空間需求。可以將幾種維護方案編入設備中,以進行定期維護,從而減少停機時間和運營成本。該系統適用於任何類型的設備，從數字電路到模擬電路，從SRAM到DRAM設備。它也足夠堅固，可以處理不同的晶圓材料。此外,它還與最新版本的ASML專有Euv光刻ASML軟件兼容,從而確保獲得最佳效果。TWINSCAN XT:1700FI是一個非常通用和可靠的光刻設備,允許用戶以經濟高效的方式生產高質量的產品。其高吞吐量和精確度使任何制造工藝受益，使其成為任何半導體制造設施的理想選擇。