二手 ASML XT 1400E #9289671 待售
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ID: 9289671
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 2.65 nm
RMS spherical: 0.76 nm
RMS coma: 1.92 nm
RMS astigmatism: 0.45 nm
RMS 3-foil: 0.71 nm
Straylight at ref. blocksize: 0.75%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.9%
Illumination intensity setting: 1575 mW/cm2
Dose repeatibility
Dose accuracy setting
Pupil verification
Ellipticity setting: 0.321 mean
Missing parts:
BMU
Y1 Shuttle hook motor hose connect parts
(2) PSU Workstation
R-chuck
PMB 5
MPD Box
SHB E-Rack
SHB Component box
WH Robot
PPD
DIFF Sensor
(2) CCM
Zero laser box
MCCB
(2) PAAC
CPM Board load
2006 vintage.
ASML XT 1400E是半導體工業中用於集成電路光刻制圖的最先進的晶圓步進器。XT 1400E采用六軸非SA常量掃描（NASC）級等先進技術來提高精度和速度。這臺機器的數值孔徑為0.55，場徑可達200毫米。其曝光時間短至10毫秒,可在5nm內執行重復性。ASML XT 1400E專為在晶片上成像和曝光而設計,以創建細線電路和諸如互連和溝槽等特征。它還能夠自動對準多個曝光模具,並覆蓋來自設計的90多層圖案。這減少了對復雜光刻曝光配方的需求。XT 1400E使用先進的照明設備來降低曝光結果的表面粗糙度。這是通過使用高脈沖激光和「超高NA」 （SHNA）離軸照明系統實現的。這提供了對曝光強度的動態控制,並能夠動態對準成像和曝光精度。ASML XT 1400E還具有多種內置的安全功能。它在曝光地點的內部激光互鎖降低了激光曝光的風險，碰撞檢測單元檢查曝光元件的意外移動。此外，XT 1400E具有內置的環境控制機，在運行過程中保持最佳工作溫度、濕度和空氣質量。總之,ASML XT 1400E是一種先進且高度復雜的晶片步進器,能夠在晶片上成像和曝光以創建細線電路、特征和互連。其內置的安全特性、先進的照明工具、環境控制資產，確保了一次又一次的無縫準確運行。
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