二手 ASML XT 1400E #9289672 待售
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ID: 9289672
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 3.16 nm
RMS Spherical: 1.62 nm
RMS Coma: 1.69 nm
RMS Astigmatism: 0.48 nm
RMS 3-Foil: 0.46 nm
Straylight at ref blocksize: 0.62%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.44%
Illumination intensity setting: 1748 mW/cm2
Dose repeatibility: 0.199
Dose accuracy setting: 2.896
Pupil verification
Ellipticity setting: 1.879 mean
Focus and leveling:
Leveling verification:
Chuck to chuck focus difference: 5 nm
2005 vintage.
ASML XT 1400E是半導體光刻領域的領導者ASML制造的頂級晶圓步進器。XT 1400E是一種最先進的機器,為微電子制造提供精確的微光刻技術。該機器具有許多先進的功能,使其非常適合高精度的制造任務,例如在晶圓、電路陣列和其他元件上顯示光阻以創建導電層。ASML XT 1400E設計為執行單步光刻系統,利用光源、透鏡、分束器和消光快門的組合,創建從光掩模或標線到晶圓或測試基板的圖樣。該機配備了一系列光源,包括KrF和ArF準分子激光器,可用於創建亞微米分辨率圖像。步進器還可以與光學相幹斷層掃描系統結合使用,允許用戶光學檢查對於顯微鏡來說太小的特征。XT 1400E還配備了靈敏精密光束對準和調整工具(SPAT),使機器能夠精確聚焦和移動步進頭穿過晶圓。SPAT使用激光幹涉測量和反饋系統來提供暴露特征的確切位置,以及線寬等其他參數。這使機器能夠產生公差在1nm以下的特征。ASML XT 1400E還配備了計算機自動化操作(CAM)功能,允許用戶從數據庫中保存和運行操作參數。該機還兼容了一系列的光掩模,如石英、聚碳酸酯和金屬掩模。此外,用戶還可以從包括Pro-Lithogen套件在內的各種圖像格式中進行選擇,從而使用戶能夠處理各種各樣的任務。XT 1400E設計速度快、效率高,曝光時間可達20秒。該機在設計時考慮了靈活性,與一系列預定義的口罩、光學系統和步進頭兼容,使其適用於一系列應用。總之,ASML XT 1400E是為微電子制造提供精確高效微光刻技術的頂級晶圓步進器。它是一臺前沿機器,具有多種功能,包括亞微米分辨率、自動操作以及一系列掩碼和圖像格式。
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