二手 ASML XT 1400E #9381463 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9381463
ArF Scanner, 12"
Wafer type: Flat
Laser type: CYMER Laser
CYMER XLA 160+/165 (45W)
OIU/Reticle-/Waf.aux.port: Left configuration
CSR 8004 Various
WH Carrier interface: (25) Wafer open cassette kit
Wafer track interface: TEL Cleantrack Lithius / 200
Mark sensor
Integrated reticle library
Reticles twinscan IRIS, 6"
ATASF ASF: IRIS-XT with PPD2 1
Second laser paddle
(24) Char reticle barcode readers
Recipe creator: Light
PEP Option: Upgraded tpt, 6", 180 Wph
Proximity matching
Exposure
ASF LS Spot coverage
Reticle streaming
Gridmapper
Spotless (Not XT:1700Fi, XT:19x0xi)
Chuck dedication
Top package: Standard (Top 2)
Enhance TPT reticle alignment
2DE Grid calibration
Gas Life Extension (GLX)
Dosemapper: Standard
LPA Local sourcing
Power: 400 V
2005 vintage.
ASML XT 1400E是專為快速、大容量晶片生產而設計的高性能晶片步進器。該設備的生產面罩水平為0.7，聚焦精度為+/-0.8微米，以盡可能精確地生產晶圓。該系統設計為最大限度地提高生產吞吐量,並配備可選的雙場掃描儀,允許用戶增加可一次曝光的單獨字段的數量。該單元以兩大光學元件為基礎；從光源發射的光束送光機和用於曝光的準分子激光器。光束傳遞工具利用了f-Theta伸縮資產，以最小像差確保最高精度水平。這樣可以最大程度地減少晶圓失真,並通過最小的標線移動來確保較高的吞吐量速率。曝光子系統包含一個1200W準分子激光器，為更快的晶圓成像提供業界領先的功率水平。該模型通過具有用戶友好的操作員界面的計算機操作。雖然激光是可編程的,但如果制造商需要定制曝光,它也可以手動調整。XT 1400E是為最大產量而設計的。該設備能夠實時監控和調節激光功率，自動調整曝光時間，以實現最高效的晶片生產。它還具有用於晶圓處理的集成負載鎖,可最大程度地減少汙染的可能性。該系統還包括一個自動柱處理單元，以確保生產過程中的最高精度。除了標準的生產功能外,ASML XT 1400E還包括旨在減少停機時間的其他功能。該機器包括一個自動化報告工具，使操作員能夠監控性能並快速發現任何潛在問題。此外,集成的診斷資產允許技術人員快速提供維護和檢查操作。XT 1400E是一種極其精確且功能強大的晶圓步進器,能夠以最小的停機時間和最大的輸出提供業界領先的性能。生產面膜等級為0.7，聚焦精度為0.8微米，非常適合大批量生產線。
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