二手 ASML XT 1700FI #293633102 待售
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已售出
ID: 293633102
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Immersion scanners, 12"
SMIF / FOUP
Projection lens
Load module:
EFEM
Process module:
Wafer stage
Reticle stage
Wafer handler
Reticle handler
AOM Laser
Bottom module
Bottom module spacer
EIM
ELEC
Utility:
CYMER XLA 360 Excimer laser
BSM
ACC
ENTEGRIS Charcoal filter
GPS
MCWC
WSRC
RSRC
MDC
WICC
WISC
2006 vintage.
ASML XT 1700FI是半導體工業中使用的一種基於光學的高端紫外線(UV)晶圓步進器。它是一種還原照明的還原步進器,利用雙曝光產生有效的航空圖像。步進器使用0.248/0.335/0.5nm多曝光階段,曝光時間短至4.2s。它可以提供4nm以下的線緣粗糙度,以及在亞微米範圍內具有納米級精度和分辨步長的級運動。ASML XT1700FI在其成像設備中采用了最新技術,配備了高度先進的雙源照明器,可提供優化的光強度控制。雙光源允許在寬工藝窗口中覆蓋各種設計,從單程雙曝光接觸光刻到雙多曝光正交對。它為流程優化和可靠的設計執行提供了一個靈活的系統。晶片步進器具有4µm的高光學分辨率、5點編碼器和28nm的RMS精度。它支持高達5 GB的鏡頭計數和單位日誌存儲。它具有最先進的對齊精度和可調節的刀具中心點,可用於高級叠加能力。其先進的可編程功能還能實現快速定位保護,防止熱點損傷和減少排便。XT:1700FI先進相機機提供高達512x512像素傳感器分辨率,動態對焦0.3µm-3µm。其復雜的圖像處理功能允許實時聚焦、劑量優化和圖像不一致。步進器支持的四曝光功能為最高分辨率的光掩碼增加了清晰度。ASML XT 1700 FI還通過其內置的通信接口和擴展的遠程診斷功能,實現了過程監視、晶圓檢查和數據日誌記錄。這使操作員能夠遠程診斷、觀察和控制生產過程。步進器還配備了「Ready-with-Link」遠程操作工具,以確保更高的吞吐量和過程控制。ASML XT:1700FI采用模塊化設計,使步進器具有高度的可靠性、無維護和經濟效益,並具有升級和擴展的能力。此外,它是一種低噪聲、低振動的設備,與各種自動化和機器人處理設備兼容。它是一臺功能強大的機器,能夠在廣泛的半導體應用中提供高性能。
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