二手 ASML XT 1950Hi #293752405 待售

製造商
ASML
模型
XT 1950Hi
ID: 293752405
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Lithography system, 12" (2) Load laser ports Hard Disk Drive (HDD) Immersion lithography with size:193 nm Resolution capability: 38 nm Overlay: 4 nm SMO / 7 nm MMO Throughput: 148 WPH (12" wafer with 125 exposures at 30 mJ) CYMER XLR-560i 193 nm 60 W/6 kHz Laser with E95 Bandwidth monitoring Semi compliant MENV and FIMS Assembly Controls: UNIX / SUN Architecture AERIAL XP P-type Illumination system Alignment: Blue align with narrow mark Focus and Field-by-field levelling Focus spot monitoring Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC) Dual E-chucks (Bonded SiC) LS-MATCH2 (XT) Image streaming Overhead reduction: 1 and 2 Productivity Enhancement Package (PEP) In-situ metrology: Sensor module ILIAS Lithoguide (SAMOS and PUPICOM) UNICOM XT Dose mapper ArF (15) QUASAR XL Slots Reticle shape correction 2DE Grid calibration Twinscan Overlay package Water cooling for electronics cabinet IRL-XP Integrated reticle library for H-SPEC Systems IRIS-XT Integrated reticle inspection system Reticle streaming Spotless G & H Twinscan Grid mapper TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit FSM flex package Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers XCDA Gas purification system Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS Reticle with defect: 40 nm SMASH XY Power conditioner: 135 kVA XCDA Gas purification system bypass manifold: Manifold three valve: 10 m Filter housing: Cabinet ESI EX2600 Filter set Standard and compliance: CE Marked S2 Compliant Manual Laser power: 60 W Throughput: 148 WPH ZEISS Starlight: 1950 2010 vintage.
ASML XT 1950Hi是一種先進的晶圓步進器,專為高級半導體制造過程中的大批量生產而設計。這種先進的光刻工具由ASML制造,ASML是半導體行業光刻設備的領先供應商。ASML XT1950HI專為滿足最先進的集成電路(IC)制造設施的需求而設計,為生產體積更小、功率更大的半導體器件提供前所未有的精度、速度和可靠性。XT 1950Hi的核心是其先進的光學投影設備,利用深紫外線(DUV)光源在矽片上實現極高的分辨率和模式保真度。步進器具有最先進的透鏡系統,能夠以亞納米精度將復雜的電路模式投射到晶圓表面上,從而能夠生產具有密集堆積晶體管和互連的尖端IC。鏡頭單元經過精心設計和校準,以最大程度地減少像差和失真,確保圖樣特征從光掩模精確轉移到晶圓。XT1950HI配備了多種創新技術,以提高半導體制造的生產率和產量。一個關鍵的特點是其先進的對齊和叠加控制機,這使得步進精確對齊連續光刻層與亞微米精度。這樣可以確保不同的陣列在晶片上完全對齊和堆叠,這對於實現緊密的設計公差和最大限度地提高芯片性能至關重要。步進器還結合了自適應照明技術,以優化圖像對比度和質量,提高圖樣特征的可見性,並實現更高的圖樣分辨率。在吞吐量方面,ASML XT 1950Hi旨在達到業界領先的生產力水平,能夠在連續、高速的操作中同時暴露多個晶片。步進器具有先進的標線處理工具,允許快速交換標線和對齊,最大限度地減少停機時間並最大限度地提高工具利用率。此外,ASML XT1950HI還配備了先進的晶片級技術,能夠快速精確地定位晶片,進一步提高半導體制造環境中的總體吞吐量和生產率。XT 1950Hi的設計還註重可靠性和正常運行時間,具有強大的硬件組件以及復雜的監控和診斷功能。步進器結合了先進的溫度控制系統,以保持穩定的運行條件並最大程度地減少熱漂移,從而確保在延長生產運行期間保持一致和可靠的模式性能。該工具配備了全面的計量和過程控制功能,能夠實時監測關鍵光刻參數,從而能夠主動維護和優化工具性能。總體而言,XT1950HI代表了先進的晶圓步進器,它為高級半導體制造的精度、生產率和可靠性設定了新的標準。ASML XT 1950Hi擁有先進的光學資產、創新的對準技術、高吞吐量能力和強大的設計,非常適合大批量生產需要最先進光刻功能的領先半導體設備。ASML繼續以ASML XT1950HI推動半導體光刻技術的邊界,使得下一代IC在全球半導體行業取得進步。
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