二手 ASML XT 1950Hi #293802187 待售
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單擊可縮放
ID: 293802187
晶圓大小: 12"
Lithography system, 12"
Load ports laser
Hard Disk Drive (HDD)
Immersion lithography: 193 nm
Resolution capability: 38 nm
Overlay:
SMO: 4 nm
MMO: 7 nm
Throughput: 148 WPH
CYMER XLR-560i
Resolution: 193 nm
Laser: 60 W / 6 kHz with E95 Bandwidth monitoring
Controls: UNIX / SUN Architecture
Aerial XP Illumination system
P type: Illumination alignment
Alignment: Blue align with narrow mark
Focus and Field-by-field levelling
Focus spot monitoring
Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC)
Dual E-Chucks
LS-MATCH2 (XT) Image streaming
Overhead reduction: 1 and 2
Productivity Enhancement Package (PEP)
In-situ metrology: Sensor module
UNICOM XT: Dose mapper ArF
(15) QUASAR XL Slots
Reticle shape correction
2DE Grid calibration
Twinscan overlay package
Water cooling for electronics cabinet
Integrated Reticle Library (IRL-XP) for H-SPEC Systems
Integrated Reticle Inspection System (IRIS-XT)
Reticle streaming: Spotless G and H
Twinscan Grid mapper
TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit
FSM flex package
Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers
Reticle with defect: 40 nm
SMASH XY
ZEISS Starlight: 1950
XCDA Gas purification system:
Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS
XCDA Gas purification system bypass manifold:
Manifold 3 Valve: 10 m
Filter housing
Cabinet
ESI Vaporsorb: EX2600
Filter set
Throughput: 148 WPH
CE Marked
Laser power: 60 W
Power conditioner: 135 kVA.
ASML XT 1950Hi是為大容量半導體制造而設計的尖端晶圓步進器。該設備由光刻設備的領先供應商ASML制造,代表了陣列技術的最新進展,為生產先進的半導體器件提供了極高的精度和多功能性。ASML XT1950HI的核心是其先進的平臺,它結合了創新的硬件和軟件解決方案,在臨界尺寸控制中實現亞納米精度。這種精度水平對於生產特征尺寸不斷縮小和復雜性不斷增加的下一代半導體器件至關重要。XT 1950Hi的關鍵特征之一是其先進的照明系統,利用多極照明技術在整個晶片表面實現均勻、高分辨率的圖樣化。該單元可以精確控制光的強度和角度,從而實現高保真度的錯綜復雜圖案的圖案。除了先進的照明機外,XT1950HI還配備了能夠實現亞納米定位精度的高精度級工具。此級資產允許晶片與標線精確對齊,從而確保圖樣從掩模精確傳輸到晶片表面。為了進一步提高其性能,ASML XT 1950Hi采用高速自動對焦模型,快速調整投影鏡頭的焦點,以保持曝光時的最佳圖像質量。這一特性對於實現整個晶片的高分辨率和均勻性至關重要,尤其是在對不同深度的復雜結構進行陣列設計時。ASML XT1950HI還配備了先進的標線處理設備,能夠在生產運行期間快速、精確地交換標線。此功能對於在大批量制造環境中最大限度地減少停機時間和提高生產效率至關重要。在生產率方面,XT 1950Hi提供了高吞吐量能力,使制造商能夠以卓越的產量和可靠性每小時生產大量晶圓。這種高吞吐量是通過快速曝光時間、高效的舞臺移動和簡化生產過程的高級自動化功能相結合而實現的。XT1950HI還設計為高度靈活,支持各種標線尺寸和類型,以適應不同的圖樣要求。這種靈活性使制造商能夠將系統用於從邏輯和內存設備到高級打包技術的各種應用程序。總體而言,ASML XT 1950Hi代表了晶圓步進技術的重大進步,為生產先進半導體器件提供了業界領先的精度、性能和生產率。憑借其先進的特性和功能,該設備非常適合要求最苛刻的半導體制造環境,在這些環境中,極高的精度和效率至高無上。
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