二手 ASML XT 760F #9276965 待售

ASML XT 760F是一種大批量生產的半導體曝光工具（晶圓步進），具有先進的成像能力，以支持技術最先進的晶圓生產周期。ASML XT:760F是具有Chuck 6和叠加測量系統（OMS）的多級設備。它能夠對350毫米晶片進行高精度和高速度的成像。XT 760 F專為用於邏輯、內存和高端模擬等前沿過程的關鍵成像應用而設計。它具有專有的X射線源，以最小的TIRF提供卓越的劑量控制和高能分辨率。XT:760F可以在一次曝光中對1到90行進行成像,而無需縫合。XT 760F中使用的高級相移算法允許對最細膩的圖樣特征進行成像,而無需使用縫合。ASML XT 760 F還具有先進的OMS,通過測量相對於對齊層的叠加精度,可產生快速、可靠的實時校正。ASML XT 760F的最小功能尺寸為11 nm,可達到高達50：1的曝光率,並支持0.25微米以下至18微米的廣泛功能尺寸。ASML XT:760F在可靠的跟蹤和在線計量單元的支持下,每小時可實現高達3,500晶圓的快速吞吐量。XT 760 F與各種先進的Photoresist兼容，包括ArF、KrF、HSQ和i-line，允許增強圖樣化的特征細度。XT:760F包含ASML Advanced Control Software Suite （ACS Suite）,它是為從操作員的單入口點進行直觀的面向過程的控制而設計的。ACS Suite提供了用於關鍵成像功能（如劑量、焦點、對準和曝光保真度）的集成算法。XT 760F還包括一個用戶友好的觸摸屏界面，支持晶圓跟蹤、機器優化和報警功能。ASML XT 760 F可以很容易地與現有和新的ASML-晶片處理系統集成,這些系統具有高科技晶片映射和汙染監測技術。ASML XT 760F是為實現最佳成像性能而設計的,經認證符合公認的有關電磁、環境和安全要求的行業標準。