二手 ASML XT 760F #9293671 待售

ASML XT 760F是為光刻工藝設計的高性能晶圓步進器。該機能夠達到亞於5納米的解析度，並能夠處理一系列的底物，從熔融的二氧化矽、石英或藍寶石晶片到薄膜矽、矽的、鈣鈦礦的薄膜。這臺機器配備了一個先進的圖樣系統，設計用於將圖樣縮小到最小的特征尺寸。ASML XT:760F的主要組件是高級基板級、步進控制器、掩模對準模塊和高速處理模塊。先進的基板級是一個高精度、多軸可移動的級，允許對基板進行精確和可重復的定位。該級能夠支撐一系列用於陣列設計的基板,其設計目的是將交叉軸誤差降至最低。此外，舞臺上還有一些校準程序，可以根據底物形狀的缺陷或錯位進行調整。步進控制器負責控制舞臺位置，調整非線性運動誤差和對準誤差。控制器還負責根據選定的工藝參數控制晶片的曝光。最後,控制器具有自動對焦功能,可確保在給定的曝光時間內最精確地聚焦於處理表面。蒙版對齊模塊提供了對非同心圓或變形形狀精確創建對齊標記和執行傾斜補償的能力。該模塊旨在最大限度地減少錯位並提高每種產品的產量。最後,高速處理模塊使機器能夠以非常高的速度將功能大小縮小到最小。模塊能夠實現0.9秒的曝光時間,從而減少了曝光之間的等待時間。綜上所述，XT 760 F是為光刻工藝設計的高性能晶圓步進器。該機能夠達到亞5納米的分辨率，並且能夠處理一系列的基板。先進的基板級、步進控制器、掩模對準模塊和高速處理模塊使ASML XT 760 F成為創建高質量光刻產品的理想機器,過程之間的等待時間最短。