二手 ASML XT 760F #9311379 待售

ASML XT 760F是用於光刻應用的晶圓步進器。它采用了一種步進重復成像技術，該技術旨在將圖樣布局以平版印刷方式轉移到半導體材料上。其主要部件包括步進器、X射線源、對準器、光刻透鏡和光學對焦設備。步進器是機器的心臟，操作很像投影儀。它配備了電動x-y級，高精度壓電電機驅動的光學子系統，以及先進的光源。X-y級將晶片快速準確地移動到所需位置，使其能夠暴露於最優的光強度和方向。壓電機構提供x-y級和鏡頭聚焦的運動控制，允許晶片精確放置和對準光刻圖樣。光源產生紫外線輻射，波長穩定，確保與每次曝光保持一致。對準系統可確保晶片相對於光掩模上的圖樣精確定位。晶圓通過「對齊網格」、一組十字準線和標記進行掃描。這使機器能夠檢測和計算晶圓與掩模上的圖樣之間的任何差異，並迅速做出必要的調整，以確保圖樣被準確地傳遞。光刻透鏡是紫外線在照射目標基板之前通過的物理成分。它負責提供所需的光刻圖樣分辨率和準確性。透鏡包含一系列聚焦元件，這些元件可以使光線成形。透鏡還能夠傾斜和旋轉，以補償下面晶片表面產生的任何失真。光學聚焦單元用於確保在整個光刻過程中保持正確的強度和分辨率。它由一臺自動對焦機和一臺超高功率激光器組成，該機對成像鏡頭的焦位進行反復監控以確保始終優化，並用於精確修改光刻圖案的形狀。最後，晶片處理工具負責從步進器的基板表裝卸晶片。它配備了可以抓取和安全定位晶片的機器人手臂，以及可以放置晶片的旋轉平臺。晶圓處理資產非常精確和高效,確保晶圓安全加載,以便快速開始曝光過程。