二手 ASML XTII / 1400F #9401145 待售

製造商
ASML
模型
XTII / 1400F
ID: 9401145
優質的: 2006
Immersion lithography system 2006 vintage.
ASML XTII/ 1400F是晶圓步進器,一種用於微電子工業生產半導體器件的設備。它是一種先進的光刻工具,使用紫外線光束將圖樣從標線連續轉移到感光基板上。XTII/ 1400F是KrF步進器,意味著它利用248 nm波長的高能KrF準分子激光投射圖樣到塗有特定光敏物質的晶片上。這一過程被稱為步進重復光刻。步進器包括幾個關鍵組件,包括照明源、投影光學元件、標線級、晶片級和掃描儀。ASML XTII/ 1400F的光源是KrF準分子激光器。這種激光通過標線面罩中的一個狹縫孔徑發出一束紫外線。光束穿過與標線上所需圖案相對應的孔徑。然後,透鏡系統將光引導到目標基板上。XTII/ 1400F的標線級允許將標線相對於晶圓精確定位,以精確對準光學圖像。晶片級允許晶片相對於投射到其上的光學圖像精確運動。該掃描儀由兩個聚焦反射鏡和兩個檢流計反射鏡組合而成,用於在基板上精確掃描標線圖案的磁場。ASML XTII/ 1400F的運行速度高達每小時4個晶圓,分辨率低至140 nm。它具有10mm至200mm的寬幅圖案場大小,適合在不同基板上產生各種尺寸的圖案。步進器可以容納多個基板,並提供重新編程的靈活性,以適應眾多不同的應用。XTII/ 1400F為確保在基板上精確的圖樣放置和均勻性,配備了可編程空間失真校正、對準攝像頭、叠加、舞臺振動控制以及精密的計算機控制平臺等眾多功能。這些功能使ASML XTII/ 1400F成為半導體、科學和醫療行業應用的理想選擇。
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