二手 ASML XTII / 1400F #9401147 待售

ASML XTII/ 1400F晶片步進器是一種高度專業化的光刻設備，用於半導體制造。它是一種最先進的工具，用於在矽芯片上創建高度復雜的納米級結構。XTII/ 1400F是一個步進掃描系統，使用離軸成像技術在基板上創建納米尺度特征。它的數值孔徑（NA）為0.77,使其能夠打印低至28nm線寬和16nm間距的特征。該機裝有大直徑14英寸的全場標線，圖案密度為3.2兆pens/cm2。這樣可以實現高吞吐量和從打印到打印的出色均勻性。ASML XTII的系統體系結構具有兩個獨立的掃描軸,可以縮短曝光時間。其曝光場大小為8 「x 8」，高畫幅精度為+/-0.1 um。該機還包括重新映射算法和模式識別系統，以確保對齊精度和提高吞吐量。ASML XTII/ 1400F由ASML TwinScan技術提供支持,它提供了高效且可重復的過程。這項技術允許機器實時調整劑量、聚焦和對準等暴露參數。此外，TwinScan™還允許用戶編程可定制的配方，以及優化晶圓吞吐量和工具生產率。XTII/ 1400F晶片步進器帶有直觀的用戶界面,可直接輕松訪問基本功能和設置。該機器允許即插即用操作,這意味著它只需要最少的操作設置即可。此外,還可以輕松配置它,以便在蝕刻和清潔過程中使用。總體而言,ASML XTII/ 1400F晶片步進器提供了一個強大的光刻平臺,具有無與倫比的圖像質量和均勻性。對於尋求高吞吐量、可重復性能和靈活操作的芯片制造商來說，這臺機器是一個理想的選擇。