二手 CANON FPA 1550 M IV-W #9296891 待售
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CANON FPA 1550 M IV-W晶圓步進器是一種高端光刻工具，旨在以可重復、可靠的方式生產復雜的微尺度結構。其核心是一個6英寸的光刻平臺，結合了可編程照明系統、微米級級和高通量光學器件。這使得最小的光學元件能夠以業界無法比擬的精度進行可靠的模式傳輸。CANON FPA 1550 MIV-W晶圓步進器使用高通量光學元件對60 nm以下的小特征進行精確成像。照明系統具有可互換光源，多用途波長範圍434 nm至590 nm可調，以配合抗蝕劑的性能。先進的像差校正確保晶圓表面的光照均勻，波前誤差最小化，在曝光時提供卓越的圖像分辨率和保真度。FPA-1550 MIV-W晶圓步進器的定位階段設計為提供廣泛的運動運動，具有比平常更大的工作空間。CANON μ MIV-W的最小步長為0.05 FPA-1550 m,最小步長為30 msec,可實現極精確的高精度陣列對齊。晶片級同時具有X-Y和正交旋轉（θ）的特性，以便在曝光時對晶片進行無縫控制。FPA 1550 MIV-W的掃描儀光學可提供4倍至60倍的放大倍率,而0.25-0.7的數值孔徑範圍提供拓撲特征的近場成像能力。此外,該光學器件還設計用於復制具有高對比度、清晰度和保真度的感光材料。FPA 1550 M IV-W晶圓步進器是一種完整的光刻工具，能夠在單曝光模式和雙曝光模式之間無縫切換。該工具還具有自動劑量控制和自動聚焦算法，提供了無與倫比的可重復性和吞吐量。此外,該機器設計為易於集成到工藝環境中,從而允許自動進行全晶圓檢查和驗證。CANON FPA 1550 M IV-W晶圓步進器是一款獨特而強大的工具，專為當今CMOS Fabs的需求而設計。該機具有高吞吐量、高精度、高精度，非常適合現代半導體光刻工藝的要求，是要求苛刻的制造方案的理想選擇。
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