二手 CANON FPA 1550 MARK IV-W #293589762 待售
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單擊可縮放
ID: 293589762
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
i-Line stepper, 6"
HP1000 PC
Jeida standard wafer
Wafer type: OF
Reticle, 5":
QUARTZ Material type
Changer type: CANON Changer type-2
Case type: CANON Changer type-1
Optical system:
UL21-LS Lenz type
Magnification: 1/5
Field size: 22 mm
Illumination system:
Light source: Ultra-high pressure mercury lamp, 2.0 kW
Light control: Estimate exposure total
Masking function: (4) Independent blades
Wafer loader:
Type-1 / Type-2
Alignment light / HeNe Laser / HeCD Laser
Wafer alignment:
Type-1 / Type-2
System / HeNe Laser image processing / HeCD Laser sensor
Mode / AGA
Reticle alignment:
Type-1 / Type-2
Alignment light / g-Line
System / g-Line, TV image processing
XY Stage:
Type-2: Rolling around type
Automatic focus:
Type-2: LED PSD OPTF, 5-Channels
Wafer leveling:
Type-2: 3 Points drive global / Die by die leveling system
Mechanical pre alignment:
Type-2: Peripheral noncontact system
TV Pre alignment:
Type-1 / Type-2
System / OFF-Axis TV Image system
Carrier / (2) Loaders/(2) Unloaders
Chamber:
Type: TBW-CD-30W
Cooling system: Refrigeration unit／Heater control
Set temperature:
Booth：21℃
Stage／Lenz: 23°C
Reticle feeder: (14) Store reticles
CCD Camera
Inline: Stand alone
Signal tower
HeNe Laser missing
1995 vintage.
CANON FPA 1550 MARK IV-W是一種最先進的晶圓步進器，利用先進的成像技術精確地制造精密結構和元件到微米級。此集成設備提供了一系列復雜的功能,如高NA步進掃描光刻、亞微米對準精度、增量級移動、擴展的分辨率範圍和擴展的最小特征大小。它還采用模塊化架構設計，可以擴展以適應特定需求。CANON FPA 1550 MARK IVW提供高NA步進掃描光刻技術,用於制造復雜結構和組件的定制布局。此功能能夠快速生成精確且可重復的圖像,並最大程度地加速7Gs。系統的高NA和連續掃描操作提供超細分辨率到亞微米級，擴展分辨率範圍從6.5到25 nm。FPA-1550 MARK IV-W的對準精度為1微米,已集成到CANON Micromage高級對準單元中。這是由一個高效使用分段照明和準直區域檢測的組合供電。這使得包括矽、玻璃和石英在內的各種基材材料能夠精確對齊和加工。整機具有模塊化架構，使其最多可配備10個步進級，每個級的最大分辨率為256 nm。組件具有板載內存,用於存儲位置信息和特征數據,以確保組件的準確放置。此功能可減少潛在的錯誤並加快生產速度。CANON FPA-1550 MARK IV-W可以容納各種基板，失真最小，擴大最小特征尺寸為0.2微米。它配備了佳能MicroMirror隔振和CASA（恒定加速度應力吸收器）濾波器，有效降低了振動和圖像失真的風險。總體而言，FPA 1550 MARK IV-W是一種最先進的步進器，能夠以亞微米分辨率和精確度產生精確的結構和組件。它還具有先進的對齊工具、模塊化體系結構和隔振功能,以確保在最小時間跨度內獲得最佳效果。
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