二手 CANON FPA 2000 i1 #9134789 待售
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ID: 9134789
晶圓大小: 6"
Stepper, 6"
Wafer type: semi flat
Wafer chuck type: LC ring chuck
Track interface: DNS
Auto-feeder (in-line direction): Left, Type 2
Altitude: X m
Signal tower: yes
CE mark (Europe): yes
Edge beam removal: no
Reticle changer:
Reticle size: 5", type 2 with 14 slots
Reticle bar code reader: yes
Library slot number: 14
Workstation:
Workstation model: HP1000
Software:
Main software version: V5.25B
Gem software version: SECS
Facility requirements:
Main electrical supply: 3 Phase, 415 VAC
Exhaust
1x Heat exhaust for chamber
2x Control rack
(Setting 0.5 inc to 2 inc H2O)
CDA Supply: 3X 100psi
Cooling water supply: cooling Water in (pressure=1to5 kg/cm2)
Vacuum: 3X vacuum setting ≤ 550 mm Hg
Drain: 1X drain for chamber aircodition system
Chamber:
Chamber type: TBW-CD-50W
Wafer feeding unit:
Type of wafer feeding unit: Type II
Wafer size: 6"
Carriers: double carriers
Flat/notch finder: flat
Method: non-edge contact, back side holding
XY stage: 6" sliding stage
Tilt stage: yes
Reticle changer system: Type II with 14 slots
Size: 5" Reticle
Reticle alignment system: TV image processing with FRA2 mark
Alignment source: g-line
HeCd laser: No
Auto wafer alignment system:
Auto alignment source: HeNe Laser (1 for X, 1 for Y)
Method: through the len off axis auto alignment
Mode: die and die and AGA
Projection lens:
Magnification: X 1/5
Numerical aperture: 0.55
Illumintor:
Light source: 1 KW Hg Lamp
Exposure time control: light integrator
Masking function: variable with 4 independent masking blades
Auto focus:
Method: optical auto focus
Other: auto compensation for barometric pressure change
Mechanical prealignment: non-edge contact
TV prealigment: TV image processing
Monitor display: LCD.
CANON FPA 2000 i1是晶片步進器,一種光刻儀器,用於在半導體晶片邊緣產生特定的圖樣。它能夠以高精度和高精度生產各種尺寸的晶圓圖樣。CANON FPA2000-I1具有大、3至5 µm的場大小,能在高效、高速的操作中執行自動模式發生器對準和晶圓對準。FPA-2000I1中使用的光刻技術基於柔性軌道技術,這是一種獨特的CANON特性,具有可變的柔性剛度,可以針對每個應用進行微調。這使它能夠提供高精度的曝光控制以及快速、精確的對準和縫合,以適應要求最苛刻的半導體模式。CANON FPA 2000 I 1還配備了多曝光特性,使其實現了改進的模式均勻性。佳能FPA-2000I1擁有自動化曝光設備,包括照明、光學計量、邊緣檢測,以及全自動閉環曝光過程。它設計為連續運行,無需任何手動幹預,並且可以在一次曝光的情況下實現關鍵模式控制。該系統配備了空氣幕和精密的空氣控制,減少汙染,這對於實現清潔、高分辨率模式至關重要。FPA 2000 i1還提供了通用的陣列設計功能。該單元可以高精度地暴露二進制分辨率模式和密集線條,也可以用來形成圓形或蛇形模式。儀器還具有隨著時間推移在單個晶片上整合多種模式的能力。FPA-2000 I 1包含多個內置安全功能。其機動化級被封閉和溫度控制,以維持穩定的環境,而其機器人控制級控制位移和方向,以確保精確曝光。緊急停止按鈕允許阻止未經授權的訪問嘗試。綜上所述,CANON FPA-2000 I1是一種高精度晶圓步進器,具有先進的性能和可靠性。其柔性軌道技術和多曝光機使其成為任何晶片陣列應用的理想工具,其內置的安全措施確保操作安全。
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