二手 CANON FPA 3000 iW #155018 待售
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已售出
ID: 155018
Wafer stepper
Configuration:
Main Unit: FPA-3000
Illuminator: FPA-3000 I line
(2) A Scope (left and right): i-line, TTL
Reticle Stage: 6", Canon STD
(2) Reticle Sender (switching): Canon STD
U-Lens
B Scope: OFF-Axis
C Scope: OFF-Axis
Laser Head: Zygo, HeNe
CCD OPTF
OA Scope: OFF-Axis
Wafer Stage: Flat Stage
(3) Θ/Z-Tilt Unit (L, M, R): Piezo
(4) Support Mount: Passive Damper
Filter (XY Stage): HEPA
Reticle Changer
Reticle Robot: Type IV
Cassette Robot: Type IV
(14) Cassette Library: Canon STD
(4) Intermediate Library: Canon STD
PPC
Wafer Feeder: Type-VI-R
SCH: Type-VI
PA Unit: 8", Notch
SH: Type-VI-R
Lamp house, 2KW
EWS HP-9000 (712/100)
UPS
CD-80 chamber
(5) HEPA ceiling filter (air)
Power receive box, 3 phase, 200VAC
D-rack: Canon STD
Currently in a warehouse
Can be inspected.
CANON FPA 3000 iW是設計用於半導體制造的自動化晶圓步進器。該裝置獨特的設計使其能夠在生產線上精確對齊單個晶片，確保晶片加工的最佳產量和準確性。CANON FPA 3000IW配備了獨特的運輸設備，采用伺服電機系統來精確定位和調節晶圓。該單元可用於創建通過生產線的自定義路徑,從而實現更高質量的生產。該單元每個循環最多可容納24個晶圓，負載能力高達500磅/晶圓。FPA-3000IW利用先進的Opto-Laser對準機準確檢測和識別每個晶圓的方向。通過將這一技術與伺服電動機工具相結合，裝置可以提高精度地精確地重新定位晶片。該資產還能夠檢測晶片表面的錯位和輕微的不規則性，從而在處理易碎晶片時實現更高的精度和完整性。該機組獨特的光學傳輸模式進一步優化了生產運行。該裝置還具有快速跟蹤技術，可提高生產能力，從而實現高效可靠的晶圓加工。FPA 3000IW還具有一些優化晶圓生產性能的附加組件。該機組裝有氣動操作的X-Y晶片卡盤，以提高穩定性和精度。精密的空氣軸承級允許晶片在加工過程中的精確運動。此外,該設備還具有由直接驅動高速風扇啟用的溫度控制環境。溫度控制環境有助於減少晶圓汙染和熱變形。晶片檢查、校準和蝕刻系統等其他高級功能確保每個晶片的處理達到最高標準。FPA-3000 IW是一種強大而高效的晶片步進器，非常適合需要精確可靠晶片加工的生產線。利用先進的對準、光學傳輸和溫度控制技術，該裝置能夠始終如一地準確生產生產質量的晶片。佳能FPA-3000IW具有高速性能、快速跟蹤設備和各種傳感器及附件,是任何需要精確、可靠和高質量晶圓處理的操作的理想解決方案。
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