二手 CANON FPA 5000 ES3 #9123442 待售

CANON FPA 5000 ES3 Wafer Stepper是一種高精度光學光刻機,旨在生產小型、精確的電子元件。此步進模型使用高級掃描照明系統將光掩模或標線上的圖樣光學傳輸到晶片上。該機具有0.50至5微米的長工作深度和特征尺寸，非常適合打造高密度集成電路（IC）、微機電系統（MEMS）等先進電子元件。FPA平臺提供450mm x 450mm的大工作區，可處理直徑達6英寸的基板。這種先進的步進器的均勻性提高了4.5微米或更高，最大全場輻照度為2000 mW/cm2。此外,它還提供10-30 μ m的可變焦點空間,精確的焦點深度為± 1 μ m,小點直徑為5 μ m或更小。它還包括一個將光掩模降解降至最低的高效擴散器。CANON FPA 5000ES3 Wafer Stepper設計用於大批量生產環境,可提高生產率和縮短周期時間。該機器采用高速研發曝光模式，使用戶能夠快速輕松地開發設備原型。它還有一個巨大的板載存儲器，存儲多達60,000個晶圓模式和500個標線。這種步進模型采用先進的先進自動對準工藝，以確保一致和準確的平版印刷結果。FPA-5000 ES3 Wafer Stepper專為低成本生產和超高精度應用而設計,在性能、可靠性和成本之間提供了平衡。它具有堅固可靠的平臺和直觀的用戶界面,以及全面的維護和安全功能。這種步進模型還支持完全自動化的曝光、檢查和測量系統，以提高準確性和驗證。此外,它還提供了一整套工程工具,如配方轉換器、參數管理器、參數對齊和litho模擬器。