二手 CANON FPA 5000 ES4 #9038993 待售
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ID: 9038993
KrF scanner, 8"
Process: DUV, LITHO - Krf Scanner
Software version: V54.06C
Wafer specification:
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
Wafer cassette: 8" PP Miraial
SMIF Interface: No
System Configuration:
Magnification: 1/4
NA: 0.80~0.50
Field size: 26 x 33 mm
Illumination (Conventional): 0.85~0.30 (at NA=0.80)
Illumination (Special): Auto selection from 4 conditions
Condition sample: NA 0.80 Outer, 0.850 Inner, 0.567 (Annular)
Light source: KrF (248 nm) Laser Cymer ELS-7300 30 W, 4 kHz
Reticle blind setting area: Max. Field size, Min: 0.4 x 0.4 mm
Reticle Alignment:
Alignment sensor: Image processing method
Alignment light source: 660±15 nm
Reticle holder size: 6"
Scan speed: 1400 mm/sec
Interferrometer: 3 axis
Wafer Alignment:
Alignment sensor: Image processing method
Alignment light source: 590±60 nm (wavelength selectable)
Scan speed: 350 mm/sec
Interferrometer: 5 axis
Pre-alignment: Edge detection system (non-contact)
Chuck maintenance: Auto chuck clean and load/unload system
Inline type: Left inline
Library #: 25
Reticle case type: Nikon type
Particle checker: pellicle particle checker (PPC)
Chemical filter type: Amine and Organic
2003 vintage.
CANON FPA 5000 ES4是一種先進的晶圓步進器，設計用於半導體加工。它是一種開放式體系結構工具,為設備生產提供高精度、高速和低成本的處理。該工具具有高數值光圈（NA）物鏡,具有寬角視野,可精確繪制具有最高放大分辨率的設備特征的圖樣。CANON FPA-5000 ES4步進器還提供雙成像路徑、快速自動聚焦設備和大的多通道曝光區域。FPA-5000 ES 4經過優化,可以處理任何晶圓尺寸,最大視場直徑可達7.4毫米,並且幾乎可以處理任何薄膜沈積過程。它還可以處理汽車和生命科學應用，以及MEMS過程，允許極其廣泛的應用。該系統配備了成像制導單元、高度靈敏的自動對焦機以及多種圖樣化技術。它還可以同時進行多次曝光,以支持精確和忠實的復制。先進的FPA 5000 ES4步進器是為滿足最新要求而設計的,具有自動對準、集成晶圓傳輸工具以及用於精確晶圓夾緊和精確級的專用工具等高級功能。最先進的光學器件和精確的對準還可以實現高吞吐量和最高分辨率的圖像。此外,步進資產的設計既縮短了周期時間,又降低了拒絕率。FPA-5000 ES4步進器是一種出色的半導體加工工具。它以低成本提供高精度和高速的處理，使其成為所有類型晶圓處理的理想選擇。它配備了先進的功能和工具，以最大限度地提高精度和效率，其穩健的設計即使在最苛刻的環境中也能提供無憂的操作。無論是設備生產、汽車、MEMS還是任何其他晶圓工藝，CANON FPA-5000 ES 4提供的不僅僅是尖端技術；確保所有工作都能得到快速、準確的處理。
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