二手 CANON FPA 5500 iZ #9251789 待售

CANON FPA 5500 iZ是一臺由CANON開發制造的浸入式光刻機，設計用於半導體晶片的精確制圖和批量生產。CANON FPA 5500IZ是一種浸入式光刻設備，利用高功率的紫外線光源、先進的光學器件、專門的化學器件和掃描力學將圖樣暴露在晶片上，創造出錯綜復雜、精確的電路圖樣。FPA-5500 IZ配備了先進的二進制照明功能包,可實現快速、精確的陣列設計,並具有很高的重復性和準確性。與傳統的二進制照明系統相比,此高級軟件包包括可變數值孔徑（VNA）模式,該模式可調整數值孔徑和光斑大小以進一步優化分辨率特性,以及將曝光時間減半的掩模移位掃描（MSS）。CANON FPA-5500 IZ的光學設置由全反射折射結構組成，共有10個光學元件，包括共享光源、成像鏡頭、鏡子、聚焦鏡頭和4快門光控制器。包含在系統中的光學元件將系統的分辨率提高到32 nm半音高。FPA 5500IZ由CANON專有的CASS（粗對準和穩定單位）提供動力,該CASS可主動穩定晶圓平面上的曝光光,並具有亞微米級對準能力和CACC（粗對準和校正機）,可改進位置控制。這兩個功能共同創造出最佳和一致的結果。FPA 5500 iZ設計了高性能晶圓級，可以控制旋轉運動和各種掃描速度。其邊緣暴露工具滿足精確的圖樣要求，晶片加載機制得到優化，可以處理易碎晶片。CANON FPA 5500 iZ還利用化學輸送資產確保工藝化學品的均勻擴散，用於可重復浸入式光刻。CANON FPA 5500IZ能夠對尺寸可達200 mm、精度可達32nm半螺距、加速度為10G、最大吞吐量為406wph的晶片進行陣列設計。它還設計了一個小的足跡，一個環保的結構，和最小的動力遏制。這使得它非常適合多技術工藝開發和大批量生產應用。FPA-5500 IZ是一種高度先進且用途廣泛的光刻模型,它配備了能夠實現精確高效的圖樣設計功能的功能。