二手 ELECTROMASK / TRE 10X #9041056 待售

ELECTROMASK/TRE 10X是一種晶圓步進器，設計用於生產用於半導體器件制造的高分辨率數字圖像。這類光刻設備的工作原理是利用光源將圖像投射到裝有光刻膠的晶片上。光源通常由激光或發光二極管（LED）組成。保存圖像信息的掩碼放置在支架中,並與晶片級對齊。當圖像投影到晶片上時,它會暴露在光致抗蝕劑上。然後開發光致抗蝕劑，並將圖像轉移到晶片上。TRE 10X基於先進設計,X軸和Y軸的移動分辨率均為0.28 μ m（微米）。晶圓級由直線電動機驅動，最大載荷容量為250毫米。該系統以最大120kHz頻率運行，能夠快速處理光掩模，同時確保打印圖樣的高精度。該單元在將圖像傳輸到晶圓時具有極好的可重復性和準確性。ELECTROMASK 10X配備了創新的光學對準機（OAS），用於掩模或標線與晶圓的精確對準。此工具使用光學傳感器來捕獲晶圓和掩碼的圖像,然後在計算機中重建它們。該傳感器還設計用於檢測蒙版或晶片在曝光前的任何刮擦或刮擦，以盡量減少光刻過程中的風險。此外，10X還設計了單次曝光、重叠曝光、影子曝光等不同的打印模式。通過具有多種曝光模式,此晶圓步進器能夠為用戶提供自定義其模式設計的能力,以滿足不同的特定要求。該資產還提供了一個多區域曝光頭，旨在適應大型芯片尺寸和擴展的視野。ELECTROMASK/TRE 10X還配備了直觀的用戶界面。顯示器顯示與各種控制功能集成在一起，包括模式校正、檢查圖像的存在、再次測量和監視、輸入放大數據、分析圖像等功能。此模型還允許用戶根據需要進行的特定光刻工藝來選擇適當的晶圓尺寸、床類型、掩模圖樣和曝光參數。這種晶圓步進器非常適合開發微處理器、集成電路和其他半導體器件的人。高分辨率和準確性使其成為制造高端半導體器件的理想選擇。此外，它高效直觀的用戶界面允許用戶以最小的努力完成他們的模式設計。