二手 GCA 6300B #9186800 待售

GCA 6300B是由GCA設計的晶片步進器，GCA是一種半導體光刻設備，用於在IC的制造過程中處理集成電路（ICs）晶片。它可以使用一個或兩個光束源在晶圓表面上成像圖樣。該機器能夠支撐直徑達200毫米的晶片，一次可處理多達16個晶片。6300B配備了一個的Ge準分子激光器，它產生兩個193nm波長的光束，可以聚焦在同一點上。它能夠產生0.50微米的分辨率，這對於一系列光刻應用來說是非常精確的。激光也可以配置為脈沖調制模式，用於單束應用，或雙束應用的雙脈沖模式。步進器采用重型應力平衡長軸/短軸龍門子系統設計，可在可變條件下精確對準晶片。步進器利用高精度空氣軸承來控制長軸運動，使其在振動或溫度波動時保持穩定。它還配備了先進的成像焦深控制系統，確保激光束保持與晶圓表面完美平行。GCA 6300B提供了廣泛的曝光場大小，範圍從1mm x 1mm到480mm x 480mm，允許它處理大面積的晶片和微量的模式。它還提供了一個稱為「可變斜率曝光」的獨特功能，它允許激光在晶圓上的不同位置改變曝光長度或「燃燒時間」，以處理高度復雜的設計。6300B是一種可靠且精確的晶片步進器，為處理大小區域的晶片提供了尖端功能。其先進的光刻能力，加上穩定耐用的設計，使其成為錯綜復雜的晶圓加工項目的絕佳選擇。