二手 GCA ALS #293639853 待售

GCA ALS
製造商
GCA
模型
ALS
ID: 293639853
I-Line wafer stepper Illumination uniformity: <= 2.5% Maximum stage travel: 200 mm System resolution: 0.65 μm L/S Depth of focus: >= 0.98 μm Reduction: +/- 0.10 µm Rotation: <= 0.05 µm Telecentricity: +/- 0.5 ppm Global registration: +/- 0.30 µm T.I.R Local registration: +/- 0.15 µm T.I.R Open frame: No repeaters Orthogonality: +/- 1.0 ppm Stage precision: +/- 0.15 µm Wafer levelling repeatability: +/- 10 ppm Reticle aligner accuracy: <= 0.1 µm Aperture blade repeatability: +/- 0.25 mm Aperture blade skew: +/- 0.25 mm RMS Realiability: 30 Cycles AWH Precision: +/- 3.0 mils AWH Reliability: 50 wafers Focus repeatability: <= 0.30 µm T.I.R Reduction repeatability: <= 6.0 ppm T.I.R Optic: Lens specification: 2145-I Tropel Focal length: 86 Resolution: 0.65 µm Image field: 24.1 mm Wavelength: 365 mm E.P Diameter: 49 mm E.P. Location: 473 mm Reduction: 1:5 Depth of focus: n+/- 0.5 µm.
GCA ALS是GCA公司為先進的光刻應用而設計的晶圓步進器。步進器具有計算機控制的晶片級,以X、Y和Z方向行進,可重復性為0.1微米。它具有超高剛度底座,可實現最高精度對準和平版印刷精度。這種步進器是一種先進、高效的設備,能夠快速、精確地進行微光刻,用於制造納米級結構和裝置。先進的鏡頭系統允許廣泛的特性,比如0.6微米的全場曝光來抵抗。步進器還有一個低溫/高精度的紫外線曝光單元,最大線速為30毫米/秒。整個機器包括光源、鏡頭、快門、測量工具、圖像處理資產和曝光控制。所有這些組件都可以組合起來以實現不同的目標,例如最大程度的曝光穩定性、分辨率和生產率。晶圓步進器還具有高級工藝控制和軟件功能。它包括一個集成的過程管理模型,可以控制曝光時間、激光功率和網格控制等曝光參數。網格控制功能通過檢測和預測大表面積上的小處理誤差,改進了過程控制。這有助於減少甚至消除光刻過程中的缺陷。除了晶圓步進器之外,ALS還具有內建的對齊、曝光和開發的過程演算法。這確保了臨界平版印刷過程的最大可重復性。它還可以與數據處理和存儲的檢查和存儲系統集成在一起。簡而言之,GCA ALS是一種高度先進的晶圓步進器,其設計具有成本效益,能夠實現高精度和高通量的光刻工藝。它是一個強大的設備,為納米結構制造提供了極大的靈活性和精度。
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