二手 GCA AutoStep 200 #9243635 待售

製造商
GCA
模型
AutoStep 200
ID: 9243635
晶圓大小: 8"
Wafer stepper, 8" TROPEL 2145 Lens i-Line (365 nm): 0.45 NA Field size: 21 mm With 8860 Environmental chamber Insitu probe: Probe mount stage and lens reduction Automatic Wafer Handler (AWH) (25) Cycles, 6" Automatic level wafers RMS10: (10) Reticles, 5" Maxi 2000: i-Line light source, 700 W AFS 100 Automatic focusing system MicroDFAS: Local alignment system Alignment prior stepping SmartSet: Metrology computer system and store data Single / Multiple steppers IQ Probe: Lamp position and light source Programmable Platen Control (PPC) Automatic adjust reticle load position Integrated Alignment System (IAS) Automatic digital alignment Atmospheric Compensation System (ACS) Nitrogen reduction lens.
GCA AutoStep 200是一種自動化晶圓步進器,旨在最大限度地提高半導體器件制造的采樣效率和靈活性。GCA AUTO-STEP 200提供精確且可重複的基板定位,並且需要最少的使用者輸入才能運作。該設備配備了自動縮放光學設備,可處理200毫米至8英寸大小的晶片,提供最佳曝光精度。光學系統隨後安裝了最先進的雙傳感器自動對焦功能,以確保高分辨率成像。曝光頭能夠以高達8mm/秒的速度移動,並且可以在X軸和Y軸上進行調整。AutoStep 200由基於GCA專有算法的控制單元提供支持。這臺機器通過預測和糾正暴露前的任何潛在位置錯誤來確保最佳晶圓放置精度。該算法還允許有效的曝光對準,並使工具能夠準確地增加或減少暴露的面積。AUTO-STEP 200包括一整套安全功能,可保護晶圓和用戶。所有暴露參數都是可編程的,資產包括硬件和軟件安全聯鎖,以確保遵守安全協議。總之,GCA AutoStep 200是一種功能強大且可靠的自動晶片步進器,旨在輕松處理各種基板,並提供精確且可重復的曝光精度。其基於算法的控制模型、全面的安全特性和雙傳感器自動對焦特性使其成為設備制造應用的理想選擇。
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