二手 NIKON NSR 1505 G6E #293602162 待售
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ID: 293602162
Stepper
Reduction projection optical system:
Numerical aperture: 0.54
Reduction ratio: 5:1
Lens distortion: Within ±0.12 µm (for X and Y)
Exposure wavelength: G-Line (458 nm)
Exposure area:
Diameter: 24.74 mm
15 mm x 15 mm
13.42 mm x 20.14 mm
Illumination optical system:
Exposure power: 300 m-W/cm²
Illumination uniformity: Within ±2.5%
Integrated exposure stability: Within ±2% (For ≥30 mJ/cm²)
Exposure time setting range: 0.05 sec to 9.9999 sec and 0 sec
Ultra high pressure mercury lamp: 1000 W
Auto focus system:
Oblique incident light detection method
Repeatability: ±0.02 µm
Vertical stroke: 0.6 mm
Focus offset entry range: ±30 µm.
NIKON NSR 1505 G6E是一種先進的晶圓步進器，旨在實現納米級的精確光刻處理。該工具采用了最先進的技術，以便對矽片進行精確和高效的陣列成像。該設備具有高性能成像階段和兩個獨立可控的光刻階段，允許精確、多曝光對準以實現高分辨率成像。該系統還利用高精度聚焦檢測單元來確保精確的圖像聚焦。NIKON NSR-1505G6E配備了支持高達6,000毫米/秒掃描的高速掃描機和能夠達到1.7納米定位精度的高精度定位工具。該工具還能夠提供電梯光束掃描功能，使多模式曝光在一個曝光步驟。這一特征與一種獨特的「重叠」算法相結合，該算法允許模式曝光成功覆蓋任何超過15個模式的設計。NSR 1505 G6E還設計為既方便用戶又靈活。該工具配有直觀的圖形用戶界面，便於用戶控制，並允許對光刻配方和程序集進行更改。此外,此步進器的設計與許多流行的光刻曝光方法兼容,包括深紫外線（DUV）、KrF和i-line以及預定義的曝光模式。該工具還具有免維護操作,包括多層晶片支架,用於在曝光期間固定晶片。總體而言，NSR-1505G6E是一種功能強大且先進的晶圓步進器，提供從納米到微米尺度的精確光刻能力。它具有快速的掃描資產和定位精度,能夠實現高效、精確的光刻成像,這對於芯片和其他電子產品的制造至關重要。該模型的免維護操作和用戶友好的界面使其成為尋求可靠且用途廣泛的晶圓步進器以滿足其光刻需求的組織和個人的首選工具。
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