二手 NIKON NSR 1755 i7A #9256260 待售
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已售出
ID: 9256260
晶圓大小: 4"-8"
優質的: 1992
i-Line stepper, 4"-8"
Reticle, 5"
Thickness: 0.09"
Material: Quartz glass / Low-expansion glass
Type: Low-reflection chromium mask (Single layer chromium also acceptable)
Resolution: 0.50 µm
Lens distortion: ±0.07 µm
Magnification control: ±0.03 µm
Maximum exposure area: 24.74 mm dia
Reticle bind setting accuracy: +0.4 +0.8 mm
Exposure power: 600 mW / cm³
Integrated exposure stability: ±1.4%
Illumination uniformity: ±1.5%
Focus calibration repeatability: Within 0.15 µm
Reduction ratio: 5:1
Field: 17.5
O.45 Resolution (NA): 0.5
Global alignment: 0.18 um
Reticle rotation:
Absolute value: Within ±0.02 µm of target value
Repeatability: Within 0.02µm
Alignment accuracy:
WGA X+3ơ ≤ 0.18 µm
EGA X+3ơ ≤ 0.11 µm
Array orthogonality: ±0.2 Sec
Stepping precision: 0.8 µm (3s)
Reticle pre-alignment accuracy: ±2 mm
Interchangeability: ±0.12 µm
Stepping rate:
<11 Sec (100 mm)
<20 Sec (125 mm)
<28 Sec (150 mm)
Throughput:
WGA:
<21 min (125 mm)
<21 min (125 mm)
<22 min 40 sec (150 mm)
EGA:
<21 min (125 mm)
<21 min 15 sec (125 mm)
<24 min 50 sec (150 mm)
1992 vintage.
NIKON NSR 1755 i7A是為單晶片光刻應用而設計的高性能晶片步進設備。它配備了NIKON最新一代的NIKON半導體光刻光學（NSL Optics），它采用了超精確成像技術來實現復雜集成電路（IC）模式的精確制造。NIKON NSR 1755I7A建立在NIKON 「i平臺」上，為單片光刻提供了優越的穩定性和精度。i平臺采用高精度、直接驅動的步進電機來移動晶圓級，進一步提高了系統的精度和穩定性。平臺還包括高速加速控制單元，用於快速模式識別和相位匹配。該機配備了兩個先進的尼康半導體光刻光學（NSL Optics）系統，為2D和3D IC模式的曝光提供卓越的性能和高分辨率。先進的光學系統分辨率範圍很大，從0.2微米（2 nm）到20微米（200 nm）。此外,該工具還可以配置幾種不同的照明選項,包括恒定K、校準K和強度K照明。為了實現可重復的準確性和可靠性,NSR-1755I7A集成了高級自動對齊資產。自動對齊模型可以準確識別晶片的位置，並與成像光學器件對齊，無需人工幹預對齊。這有助於減少對齊錯誤的數量並減少晶圓放置所需的時間。NIKON NSR 1755 I 7A還配備了高速晶圓處理設備，以高達2.5晶圓每秒的速率進行快速晶圓交換。這有助於減少過程時間並提供巨大的吞吐量,同時保持高精度。再者，步進器還配備了工藝診斷系統，可以快速檢測晶圓暴露過程中的缺陷和異常。總的來說，NSR-1755 I7A晶片步進器是一個先進的單元，提供卓越的性能，單晶片光刻。它具有很高的可重復性和準確性，並提供廣泛的分辨率和照明支持。先進的自動化和過程診斷確保機器能夠以最佳的吞吐量提供可靠且無缺陷的IC模式。
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