二手 NIKON NSR 2205 EX12B #9265226 待售
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ID: 9265226
優質的: 1997
DUV Stepper
Resolution: 280 nm
N.A: 0.55
Exposure light source KrF: Excimer laser (248 nm)
Reduction ratio: 1:5
Exposure field: 22 mm Square to 17.9 mm (H) x 25.2 mm (V)
Alignment accuracy (EGA): 55 nm
Robot arm, P/N: DDCVR-CR1041
Laser head
Alignment systems:
LSA
FIA
CYMER ELS5400 Laser
Lens type: 5EB2
LSA / FIA
Table leveling: AF
Reticle table: 56-6
CYMER EX Laser
Illumination units:
5EB2 IU
CYMER BMU
SHRINC Printed circuit board
RA: 5EB2 RA6
RLIB-ADP: Straight ARM 6
Ceramic wafer holder, 6"
Control rack
Power rack and power supply
LIA
WL3 Type carrier table: Right
Accessories
Wafer loader: Type 3
Pre-alignment 6: Type 3
Wafer loader 6: Type 3
In-line type: Left
1997 vintage.
NIKON NSR 2205 EX12B是專門為半導體光刻開發的高精度、經濟實惠的深紫外線（DUV）晶圓步進器。此步進器提供0.15微米的最新分辨率和高達2000晶圓/小時的掃描速度。它可用於制造線寬低至70nm的器件，使其成為先進半導體應用的合適選擇。步進器為全系列的DUV寬頻光源設計，包括ArF準分子和F2激光器，可用於生產和開發應用。NIKON NSR-2205EX12B采用13英寸掃描儀和10級線性索引器設計,每層最多可曝光8次,能夠對異常精確的圖樣進行成像。此外,它還具有雙光束掃描系統,允許在10 X和15X模式下同時成像,從而使步進器能夠提供卓越的蝕刻分辨率。其高精度和低噪聲水平保證了準確的基板對準。這種步進器配備了高度可靠的缺陷檢測系統，具有自動調整其掃描參數的能力，以最大限度地提高吞吐量，最大限度地減少拍攝到拍攝大小的可變性。該步進器還提供一系列環境效益,包括低工作溫度、無振動操作以及與室溫濾波器的兼容性。此外,它還采用了低功耗、低噪聲的優化照明系統.這種步進器與大容量等離子體產生系統高度兼容，使其適合大容量光刻。它還支持將數據卸載到計算機輔助設計軟件,使用戶能夠快速準確地對其設計進行更改。所有這些功能使NSR-2205 EX12B成為那些使用半導體的人的經濟高效且可靠的選擇。它是為長期的精度和精確度而設計的，其深層的紫外線成像能力使其適合先進的器件制造。對於那些為晶圓成像要求尋求高性能解決方案的人來說,此步進器是一個最佳選擇。
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