二手 NIKON NSR 2205 i11D #9174897 待售
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ID: 9174897
晶圓大小: 2"- 4"
Stepper, 2"-4"
Specification:
Expose area:
28.28 mm Φ
20.0 * 20.0
19.61 * 20.40
Resolution: 0.5
DOF: Within +/- 2.0µm
Lens distortion:
Min X.-0.063µm Y:-0.089µm
Max X:0.028µm Y:0.068µm
Illumination uniformity conv (ID1): 1.495%
Integrated exp controller: 0.30%
Wafer holder flatness: 1.02µm
Leveling:
X -1.058sec Y: -0.016sec
R 0.736sec P: -0.759sec
Auto focus stability: Within +/- 0.4µm
Reticle blind:
XL:0.6 mm XR:0.65 mm
YL:0.5 mm YU:0.55 mm
Array orthogonality: 0.013 Sec
Stepping accuracy(STEP): X:0.082/*n Y: 0.055µm (3)σ
Reticle rotation(ABS/Rep): 0.003µm
Overlay accuracy: Mean +3σ<0.18µm
Defocus rate < 6.0%
Wafer load type: Type ll
Reticle size: 6"
Wafer type: Flat
Chuck size: 2"- 4"
Currently installed.
NIKON NSR 2205 i11D是一種高度先進的分子步進設備，設計用於制造半導體器件。第五代NIKON晶片步進器能夠實現25 nm的最小圖像尺寸。它提供了全面的高性能能力，使其能夠滿足最新納米加工技術的需求。該系統提供0.31超分辨率和0.8 nm最小覆蓋精度的卓越光學分辨率。它配備了雙模場交換單元，使其在保持最佳分辨率的同時實現更快的曝光時間。這是通過NIKON i-Tone場增強成像技術實現的。該機提供靈活的成像平臺，具有一系列曝光模式，包括單模、接觸模式和深紫外線。此外,它還支持各種高分辨率DUV鏡頭,包括數值光圈（NA）值高達0.135的鏡頭。這允許對可能具有納米尺寸的結構進行高精度成像。刀具的Sub-10nm模式控制提供了精確的模式優化。這是通過其專有的Wavefront Control技術實現的，該技術用於將光束塑造成納米級。這提高了NIKON NSR-2205I11D制造亞微米器件的精度和能力。NSR 2205I11D提供高性能低粒子生成（LPG）階段。這一資產最大限度地減少了晶片在接觸或對準活動期間的顆粒汙染，有助於提高設備產量和延長關鍵部件的壽命。該模型還采用了NIKON獨特的Field Imaging Equipment （FIS）技術，使其能夠創建精確的曲面三維圖像。這在光刻應用中用於提高最終產品的準確性和質量。總體而言,NIKON NSR 2205 I 11 D系統是一種功能極其強大的高級晶圓步進器。它提供出色的成像能力、精確的模式控制和最小的粒子生成。它的功能使其成為半導體制造活動的寶貴工具,提供精確的圖樣打印、可靠的對準和納米級結構的精確成像。
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