二手 NIKON NSR 2205 i12C #9379646 待售

ID: 9379646
i-Line stepper, 6" Chamber temperature: 23°C Chamber type: S16 NA Variable system Reticle, 6" Fixed reticle microscope Maximum field: 22 mm Reticle loader: Standard, 13-Slots Reticle case: Standard, 6" Pre alignment-2 Wafer loader: Type II Chip leveling Wafer carrier table: Left, right Alignment sensor: LSA, FIA Body-OP Ruck cable: 3 m Rack type: Right Lamp power: 2000 W SHRINC Type 3 Illumination Wafer holder flatness: ≤2.5 μm / 200 mm Field inclination: Within 0.35 μm Leveling setting accuracy: Within ±1.5 sec Lens distortion: ≤±0.50 µm Reticle blind setting accuracy: 0. 4mm - 0.8mm Exposure power: ≥700 mW/cm² Illumination uniformity: ≤±1.5% Integrated exposure dose control: ≤±1.0% Array orthogonality: Within ±0.1 sec Reticle rotation: |M|+3σ ≤20 nm Stepping accuracy: 3σ ≤45 nm No wafer edge exposure No signal tower No PPD No reticle barcode reader No extend R-library No In-line Overlay: LSA: |M|+3σ ≤75 nm FIA: |M|+3σ ≤75 nm Accuracy: ±55 nm Wafer pre-alignment repeatability: X, Y, θ: 3σ ≤ 15 μm Y-θ: 3σ ≤ 20 μm Resolution: 0.45 μm Magnification: 5:1 Depth of focus: 2.00 μm Exposure wavelength: 365 nm 1997 vintage.
NIKON NSR 2205 i12C是一種晶圓步進器,提供亞微米的圖樣精度和快速曝光時間。最大曝光場尺寸為12英寸(305毫米),最大晶圓直徑為8英寸(200毫米)。其光學器件的數值孔徑(NA)為0.63,可使分辨率達到0.2 μ m。先進的紫外線光源配有虹膜快門,可提供用戶選擇的曝光能量,精度± 0.5%,以0.5 mJ的速度遞增至13 mJ/cm ²。NIKON NSR-2205I12C旨在支持各種不同的用戶需求,允許用戶從一系列工藝軟件驅動程序中進行選擇,包括為所有主要抗蝕劑材料開發和驗證的條件。曝光所需的流程配方可以使用直觀的圖形用戶界面進行管理。此外,易於使用的檢查工具使用戶可以通過設備自動執行的離軸集成高度、寬度和等阻測量(MAPS)來檢查和監視縫合和區域暴露。其晶片級系統提供了高精度的多場縫合,減少了暴露過程中的級振動。此外,它的簡單設計允許方便的消耗品訪問,使部件的維護和更換成為一種微風。該設備還具有自動晶圓對準機,可實現高吞吐量。總體而言,NSR 2205 i12C晶片步進器是一種先進的步進器,它使用戶能夠輕松快速地實現亞微米的陣列精度。它提供了一種高性能和直觀的方法來管理流程配方、方便維護和自動化晶圓對齊工具。其他功能,如先進的紫外線光源和虹膜快門增強使這個資產適合最苛刻的光刻應用。
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