二手 NIKON NSR 2205 i14E2 #293817939 待售

NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper是一種無鉻、抗反射塗層（ARC）、先進的晶片步進器，適用於VLSI、平板顯示器和MEMS應用。它具有直徑6英寸的大圖案區域,支持高達15 nm的高圖像覆蓋精度。NSR 1125 i14E2具有高達每小時120萬個晶圓的步長和重復率、5微米的高模式幾何精度以及高達70 x 70毫米的現場尺寸,為中型生產提供了卓越的成本效益和生產率。此外，它的亞微米對準系統也為許多生產需求提供了創新的解決方案。NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper包括一個全場瞄準設備，可以簡化操作並提高模式對準的準確性。它具有極高精度的0.1毫米配準精度，能夠根據圖像信息檢測極小的顆粒缺陷。自動模式匹配、自動頂部曝光級別和自動縮放等系統功能增強了流程靈活性並提高了生產率。該步進器還配備了低應力線性瞄準法，可最大程度地減少透鏡變形和圖樣失真，以及通過在光學單元中混合液氦消除光學誤差的低振動攪拌法。NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper的設計可以承受高真空、高溫和各種氣體暴露條件，使其適合真空技術、標記和幹燥等多種類型的生產要求。該機采用雙龍門級設計，大大降低了晶圓報廢率，提高了覆蓋精度。其先進的晶圓處理工具可最大程度地減少晶圓的移動,同時提高批量生產率。此外，采用強制空氣冷卻的環境控制資產可確保消除有害顆粒。NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper由NUMDBS, NIKON專有的光學設計軟件包控制。NUMDBS快速計算照明和圖樣設置,並監控與數字Photomask （dPM）層的對齊。此功能強大的軟件還可以優化布局數據以提高流程性能。該步進器的軟件結合了多種安全功能，如自動橫梁遮擋和動態曝光控制，以達到最大程度的安全性。此外,方便的掩模轉換模型還可以使過程轉換順利進行。最後,NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper提供了一種高效且經濟高效的晶圓生產解決方案,可以滿足當今要求苛刻的半導體生產要求。其特點包括全場瞄準設備、高圖像叠加精度、環境控制系統以及先進的晶圓處理單元，都是為用戶提供可靠準確的晶圓生產解決方案而設計的。