二手 NIKON NSR 2205 i14E2 #9210465 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9210465
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Stepper, 8"
Magnification: 1/5 Reduction
Light source: i-Line (365nm)
Resolution: 0.35um
Variable Lens NA: 0.50~0.63 Variable
Exposure filed size: 22mq (Up to 17.9H by 25.2V)
Control: Bellows unit
Lens adjust: Micrometer / PIEZO / Washer
Lamp: 2.5kW Hg
PC System hardware:
Type: DMCC
UPS: No
Reticle size: 6"
Reticle microscope: Fixed
Alignment sensor:
LSA
FIA
LIA: No
TTLFC2
Illumination system: SHRINC4 Type
Interferometer system:
Interferometer type: 5517C
Wafer stage
Reticle stage
Multi focus system
Leveling system: Table
Wafer loader: Type3
OF Type
(2) Wafer cassettes
Left in-line wafer (DNS)
Wafer pre-align type: NC PRE2
Wafer edge exposure: No
Reticle loader: Normal
(3) Libraries / (30) Slots
Barder reader
Particle checker: (PPD3)
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Signal tower: (4) Colors
Chamber:
ASHAHI N4A-C Double NEMA (CVCF)
BATC / CATC / LLTC: 23.0 / 23.0 / 23.0 °
Missing parts:
ALG A-504 PCB
ALG A-505 PCB
ALG A-506 PCB
LLTC TEMP Sensor
WL Robort arm
WS X Linear AMP
Piezo driver (A3, A4 PCB)
Electrical power: 208V, 60Hz, 3 phase
2001 vintage.
NIKON NSR 2205 i14E2是一種前沿晶片步進器,旨在為大容量設備制造過程提供高精度和可靠的性能。該設備為光刻和重復成像應用提供了前所未有的分辨率、卓越的性能和多功能功能。NIKON NSR-2205I14E2提供了廣泛的功能,以確保最佳的設備制造性能。它配備了強大的NSR-iF2光刻系統，用於過度蝕刻和幹蝕刻等先進工藝。該單元配備了先進的成像引擎，提供二維和三維對準精度。它還具有垂直移位機構和高精度激光自動級機器等一系列先進技術，以確保光掩模和晶片的精確定位。該工具能夠生產精確度為1nm ±的設備,並提供統一的圖像-即使跨大面積設備也是如此。它被設計為兼容多種語言和底物，如無定形矽、結晶矽、氙和砷化氙。該資產能夠處理最大10,000毫米²的大面積設備。它提供了一個擴展的焦點深度，允許更深入地滲透到基板層，提供更大的靈活性過程收斂。該車型還配備了自動對焦設備，快速輕松地調整對焦位置，確保每次曝光時圖像質量優越。該系統采用直觀的用戶界面設計,具有專用的菜單,用於處理設置、晶圓信息和設備診斷。它提供全機控制，對光學和基板對準系統進行實時監控。用戶友好的界面還允許用戶輕松修改參數，更改曝光參數，並存儲多個配方，以獲得最大的靈活性和效率。NSR-2205 I14E2擁有令人印象深刻的工業級設計,在各種生產環境中提供卓越的可靠性和準確性。它有一個集成的濕度和振動保護工具，減少了環境變化對資產績效的影響。該模型還具有低維護和易於校準的特點，具有高精度的瞬時校準設備和無故障操作的自我診斷功能。NSR 2205I 14E2是一種高性能、可靠且精確的晶圓步進器,在要求最苛刻的設備制造過程中提供無與倫比的性能。
還沒有評論