二手 NIKON NSR 2205 iL1 #293808780 待售

NIKON NSR 2205 iL1
ID: 293808780
晶圓大小: 8"
I-Line stepper, 8" Material: GaN on Silicon / Silicon Wafer OF Type: Notch Wafer carrier: Open cassette Temperature: 23°C TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 Coater / Developer system Wafer holder type: Narrow pitch Thick / Thin wafer Reticle size: 6" Reticle library slot: 26 Reticle barcode reader UPS Signal Tower Resolution: Conventional: 0.50 μm 1/2 Annular: 0.35 μm Lens distortion: ≤±50 nm Magnification control accuracy: ≤±20 nm Maximum exposure area: 22.0 mm x 22.0 mm Reticle blind setting accuracy: +0.4 mm to +0.8 mm Exposure power: ≥700 mW/cm² Reticle rotation: ≤20 nm Array orthogonality: ≤±0.1 sec No In-line No IR Alignment No PPD Power supply: 200 VAC, 50 Hz.
NIKON NSR 2205 iL1晶圓步進器是為半導體制造設計的尖端光刻工具。該設備非常註重精度和吞吐量,非常適合對先進技術節點的需求快速增長的大批量生產環境。NSR 2205 iL1將最先進的技術與創新功能相結合,提供卓越的成像性能和過程控制功能。NIKON NSR 2205 iL1的核心是其先進的透鏡系統,該系統針對尺寸可達300 mm的晶片上的高分辨率圖樣進行了優化。鏡頭單元采用復雜的多元件設計,可最大程度地減少光學像差,並最大限度地提高整個視野的成像質量。該機的數值孔徑為1.35,能夠以優異的保真度分辨出50納米以下的特性,適用於要求最苛刻的光刻應用。NSR 2205 iL1配備了高精度級工具,能夠在曝光過程中精確定位和對準晶圓。舞臺資產采用先進的運動控制算法,即使在高速下也能最小化振動並確保穩定運行。這種精度水平對於實現緊密覆蓋和關鍵尺寸控制至關重要,這對於滿足先進半導體工藝的嚴格要求至關重要。NIKON NSR 2205 iL1的主要功能之一是其高級對齊和焦點控制功能。該模型采用激光幹涉法和相位檢測技術相結合,實現亞微米對準精度和對焦控制,確保圖樣以最佳的對焦深度正確定位在晶圓表面上。這種控制水平對於實現整個晶片的高模式保真度和均勻性至關重要,即使在存在工藝變化的情況下也是如此。NSR 2205 iL1還配備了先進的照明設備,設計用於向晶圓表面傳遞均勻的高強度光。該系統配備了一系列照明模式,包括離軸和環形照明,可以量身定制,以配合光刻工藝的具體要求。這種靈活性使設備能夠優化不同類型圖樣和材料的曝光條件,最大限度地提高光刻工藝的性能和產量。除了先進的成像和對準功能外,NIKON NSR 2205 iL1還配備了一套全面的過程控制和監控工具。該機器具有對關鍵過程參數(如劑量、焦點和叠加)的實時監控功能,使操作員能夠在影響產品質量之前檢測和糾正與目標值的偏差。這種主動的過程控制方法最大限度地降低了缺陷的風險,並提高了總體生產效率。總體而言,NSR 2205 iL1晶圓步進器代表了先進半導體制造的最先進的光刻解決方案。此工具具有先進的成像、對齊和過程控制功能,非常適合需要對50 nm以下功能進行精確陣列處理的大批量生產環境。NIKON NSR 2205 iL1通過將尖端技術與創新功能相結合,使半導體制造商能夠在生產下一代設備時達到最高的性能、生產率和產量水平。
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