二手 NIKON NSR 4425i #293719076 待售
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ID: 293719076
晶圓大小: 8"
Stepper, 8"
Reticle loader
Reticle size, 6”
Field size: 44 mm x 54 mm
Library slot: 13
Wafer type: Notch
Wafer loader: Type 2
Wafer alignment: LSA, FIA and EGA
Disk drive: SSD / DOS
Ring chuck
WS-Ball screw
(2) Cassettes
Control rack
PC.
NIKON NSR 4425i是一種尖端晶圓步進器，旨在滿足半導體光刻工藝的苛刻要求。這種先進的工具結合了精確度、速度和靈活性，能夠以納米尺度對矽晶片上的集成電路進行高分辨率制圖。NIKON NSR-4425I的核心是一種先進的光學設備,它利用深紫外線（DUV）光源,通常在193 nm的波長下工作。這種短波長光使系統能夠實現高分辨率的模式，這對於生產具有密集堆積特性的先進半導體器件至關重要。NSR 4425 I具有最先進的折射透鏡單元,在將DUV光聚焦到光刻矽晶片上方面起著至關重要的作用。鏡頭機由鏡子和鏡頭組合而成，共同工作，以最大程度地減少光學像差，達到最佳影像品質。這樣可以確保以卓越的保真度和分辨率將圖樣從光掩模精確傳輸到晶片上。NSR 4425i的主要優點之一是其先進的對齊和叠加功能。該工具配備了精密的對齊資產,可將光掩碼上的圖樣與晶圓上的圖樣精確對齊,確保功能彼此之間的位置準確。這對於實現緊密的覆蓋公差至關重要,這對於半導體器件的性能和功能至關重要。除了對齊功能外,NIKON NSR 4425 I還提供高級階段控制功能,可在曝光過程中精確移動和定位晶片。這種高度的控制允許整個晶片的一致和均勻的曝光，從而在整個表面形成一致的圖樣。NSR-4425I還配備了先進的自動化能力，簡化了光刻工藝，減少了人為錯誤的風險。該模型可以編程為自動執行復雜的曝光序列，最大限度地減少操作員幹預，提高整體吞吐量。這種自動化功能對於速度和效率至關重要的大批量制造環境特別有利。此外,NIKON NSR 4425i還集成了先進的監控系統,可連續監控關鍵參數（如暴露劑量、焦點和對準）,以確保最佳工藝性能和產量。該設備旨在提供實時反饋和調整,使操作員能夠快速識別和糾正光刻過程中可能出現的任何問題。總體而言，NIKON NSR-4425I代表了高分辨率半導體光刻應用的最先進的解決方案。憑借其先進的光學系統、精確對準和叠加能力以及自動化功能，該單元使半導體制造商能夠實現生產尖端集成電路所需的高水平的陣列精度和一致性。
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