二手 NIKON NSR i9 #293586905 待售
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已售出
ID: 293586905
Stepper
Resolution: 0.5 µm
DOF: 0.7 µm
Expose area: 20 mm
Lens distortion: ±0.10 µm
Exposure power: 500 mW/cm²
Illumination uniformity: <2.0 %
Integrated exp controller: ±2 %
Wafer holder flatness: 2.5 µm
Chip levelling: ±1.5 sec
Auto focus stability range: 0.40 µm (3) times
Stepping accuracy: 0.07 µm
Wafer holder, 8"
Reticle, 6"
Reticle blind: 0.4 - 0.8 mm
Reticle rotation:
Absolute value: ±0.02 µm
Target repeatability value: 0.02 µm.
NIKON NSR i9是一種最先進的晶圓步進器，能夠以最小的排泄率對大直徑半導體基板表面進行精確和可重復的陣列處理。它巧妙地平衡吞吐量、分辨率和成本在一個緊湊的，但功能強大的包。NSR i9采用了激光幹涉儀和導航設備的4透鏡投影光學元件，在直徑達8英寸的基板上實現了小至32納米的缺陷。這是對系統前身的雙重改進。幹涉儀允許晶圓定位中的亞納米級精度，而導航單元則允許晶圓對準精度通常限制此類操作。NIKON NSR i9框架集還包括一個同時提高顯微鏡分辨率的消磁透鏡，以及一個放大視野的變焦透鏡，同時保持對移動目標的精細聚焦，獨立於基板位置。NSR i9的其他特點包括增強激光機器,能夠在所有工藝波長下發射全光譜光,超低、靜態和動態對峙間隙分別為1.2 um至0.1 um,同時易於用於工藝變更,並針對磁盤和平板基板進行了優化。NIKON NSR i9還提供前沿功能,例如可容納幹式和浸入式腔室配方的完全集成腔室, 以輕巧的設計集成光學元件的封裝， 一個多層視野的數字顯微鏡來識別潛在的缺陷， 自動化工具和設置,以盡量減少基板處理時間並提高映射質量, 同時保護精致而有價值的底物的安全， 允許NSR i9對直徑最大為8英寸且精度低於nm的晶片進行陣列設計。
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