二手 NIKON NSR S203B #9357170 待售
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已售出
ID: 9357170
晶圓大小: 8"
DUV Scanner, 8"
Reticle size, 6"
Wafer loader: Type 3
KOMATSU G10K Laser
Standard BMU
Left in-line
PPD
Bar code reader
Wafer holder flatness: 1.060 um
Field inclination: 0.184 um
Exposure power: 325 mW / cm²
Integrated exposure dose control: 0.45%
Array orthogonality: 0.034 sec
Reticle rotation: 0.004 um
Overlay (LSA):
X: 0.024
Y: 0.042
Overlay (FIA):
X: 0.029
Y: 0.030
Lens distortion:
X: -0.013 ~ 0.019
Y: -0.013 ~ 0.014
Reticle blind setting accuracy:
YF: 0.60, YB: 0.55
XM: 0.60, XP: 0.60
Stepping accuracy:
X: 0.021 um
Y: 0.022 um.
NIKON NSR S203B是為高級光刻工藝設計的前沿晶片步進器。是一種用於半導體器件制造的浸入式工具。該設備采用優化光學系統,分辨率為0.13 µm,步長為0.07 µm,聚焦深度為1.7 µm。該單元是一個高度集成,先進的掩模對準能夠產生亞微米光刻分辨率。該機配備了高速6kW激光自動對焦機和六軸自動調平控制,提高了成像的均勻性和準確性。這有助於確保晶圓準確地放置在曝光階段,並實現曝光的最佳聚焦。它還提供了一種先進的冷卻工具,帶有液體冷卻套,以防止暴露發生後折射率發生變化。這一資產的精確度對於確保盡可能高質量的光刻至關重要。NIKON NSR-S203B旨在為用戶提供全方位的功能,包括全自動曝光操作、高精度曝光模型和超過1%的曝光精度。曝光設備采用高通量、低曝光時間的抗蝕層補償系統,優化曝光速度和精度。控制單元確保晶片和曝光單元之間的完美同步,並提供調諧曝光參數的能力。該機還具有高效的溫度控制環境室,以保護組件免受熱波動的影響。這大大增加了設備的熱穩定性,也減少了潛在的圖像誤差。此外,該工具提供主動振動控制資產,從而減少曝光時間,以確保最高質量的成像。NSR S203B還通過使用針對小特征大小、高分辨率掩碼和復雜曝光開發的高級算法提供了出色的成像結果。使用高分辨率相機和先進的圖像處理算法進一步加強了曝光過程。相機可以檢測晶片上的任何汙垢或瑕疵,並自動為它們調整。該模型還包括用於對設備進行編程的復雜用戶界面,使用戶能夠快速設置曝光參數和參數。總體而言,NSR-S203B晶片步進器為用戶提供了一個先進的光刻平臺,能夠提供高精度、高速、高通量和高精度的曝光過程。它是為設備制造商設計的多功能一體解決方案,提供一流的成像性能和準確性。
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