二手 NIKON NSR S204B #293627299 待售

製造商
NIKON
模型
NSR S204B
ID: 293627299
DUV Scanner CYMER ELS 6400 Exposure power: 900 mW/cm² Illumination uniformity: ±2% Wafer flatness: 3.0 µm Recticle accuracy: 0.4 - 0.8 mm Reticle rotation: |x| + 3σ, 0.02 µm Stepping precision: 3σ, 0.025 µm Backlash precision: 3σ, 0.025 µm Distortion: ≤ ±0.025 µm LSA Overlay: 3δ ≤ 0.045 µm FIA Overlay: 3δ ≤ 0.045 µm Inclination: ≤ 0.2 µm Wafer pre-alignment: ≤ 15 µm.
NIKON NSR S204B是一種高性能、步進重復的晶片步進設備,設計用於生產光掩模、標線、平板顯示器和高分辨率檢測基板。它具有0.37nm最精確的分辨率之一,最大圖案尺寸為12mm x 12mm。該機能夠同時處理多個網狀結構,使其適合生產大量的光掩模、網狀結構和平板顯示器。NIKON NSR-S204B配備了3鏡投影對準系統,優化掃描算法,沒有任何圖像分割或重叠,以及先進的對準保護。使用該單元實現的精確對準精度確保了完整性,並且非常容易與光掩模放置階段對準。為了達到最大的吞吐量和生產率,S204B加快了曝光過程,並為現場區域中的其他晶片提供了高速旋轉階段,使多個標線能夠同時曝光。這使得生產效率和穩定性大大提高。這臺機器還得益於10倍的內部放大倍率以及擴展的聚焦深度,從而允許超過0.75 �m的步長,而不會丟失任何圖像檢測。另外,色差校正工具允許粗細調整。該S204B還提供先進的邊緣表示技術,確保更高的準確性在檢查過程中.SNR Technology測量邊緣信息和形狀失真,同時考慮到任何非線性,並提供比傳統步進和重復步進器更準確的結果。為了防止操作員出錯,S204B具有內置的錯誤檢測和預防系統,允許在生產過程中正確處理任何意外幹擾或故障。該資產還具有內置的智能對齊功能,可實現準確的分辨率和快速定位。總之,NSR S 204 B是一種高性能、多功能晶片步進模型,設計用於生產光掩模、標線、平板顯示器和高分辨率檢測基板。通過提供先進的鏡像對準設備、增強的掃描能力、提高的速度和提高的檢查精度,S204B是任何生產過程中必不可少的強大工具。該系統可提供最高級別的準確性和吞吐量,而不會影響圖像完整性。
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