二手 NIKON NSR S204B #293799832 待售
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單擊可縮放
ID: 293799832
晶圓大小: 6"
優質的: 2000
Stepper, 6"
Wafer type: Flat
SiC Pin chuck
Resolution: ~ 0.2 µm
Exposure field: 26 x 33 mm
Reticle, 6"
Pre-alignment: NC Pre2
CYMER ELS 6400 Laser
Reticle alignment
Wafer alignment
Auto focus
Auto feeder
Wafer tilt
Wafer holder
BMU
PPD
Power supply: 200 V, 3 Phase
2000 vintage.
NIKON NSR S204B是一種用於半導體生產的高性能晶圓步進器。該設備旨在為集成電路和其他微型件的制造提供精確的精度和高通量。它具有堅固、高精度的舞臺，能夠在各種工藝和環境條件下高速運行。該系統由一個電動舞臺和一系列鏡頭組成，共同構成鏡頭組件和舞臺控制。開發了一種電機驅動級，通過控制兩個可調級提供高精度和高通量，一個用於粗放定位，另一個用於精細定位。舞臺控制能夠在x、y、z運動中精確定位基板支架，在所有方向上的最大精度為0.001mm。NIKON NSR-S204B先進的運動控制和成像有助於確保晶片的曝光均勻且可重復，從而實現精度和高通量。自動對準裝置有助於減少曝光過程時間。步進器與多種光掩模和晶圓類型兼容，使其非常適合於多種不同的終端應用和生產過程。NSR S 204 B的曝光機配備了254 nm的高功率紫外線曝光源和高輸出激光曝光源。曝光持續時間可以以納秒或毫秒為單位指定。總暴露劑量自動計算，暴露劑量控制工具防止晶圓過度暴露或暴露不足。NSR-S 204 B還具有高精度探測器和溫度控制系統,這是提供嚴格的曝光控制和統一的曝光結果所必需的。還有一個實時晶片監視器資產，用於檢查曝光質量。為了增加便利,NIKON NSR S 204 B與外部接口控制模型兼容,允許與工廠控制設備集成。該系統還通過內置的空氣淋浴功能保護免受汙染。NSR S204B是集成電路和其他微型元件生產的首選。其先進的運動控制、暴露單元和汙染防護使得它成為一個可靠和準確的機器，要求苛刻的生產過程。
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