二手 NIKON NSR S609B #9188831 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9188831
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wafer stepper, 12"
CYMER XLA 240 Laser
Resolution: ≦ 55 nm
NA: 1.07
Exposed light source: ArF Excimer laser
Wavelength: 193 nm
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposing range: 26 x 33 mm
Overlap accuracy: ≦ 7 nm
Throughput: ≧ 130 wafers/hour (76-Shots)
Exposure power conversion: 4800,952 (mW/cm²)
Illumination uniformity conversion: 0.205% (Dynamic)
Wafer holder flatness, Hip flatness: 2.018 μm
Reduction magnification: 1:4
Measurement of moving mirror measuring:
Residual WX: 1.201 nm
Residual WY: 1.271 nm
Exposure of light moving stage mirror measuring:
Residual WX: 1.028 nm
Residual WY: 0.533 nm
Lens distortion:
Max X: 6.2 nm Y: 3.9 nm
Max X: -6.3 nm Y: -2.4 nm
Stepping precision (Step):
SX1: 3σ = 5.8 nm
SX2: 3σ = 6.9 nm
SX3: 3σ = 6.6 nm
SY1: 3σ = 4.0 nm
SY2: 3σ = 4.2 nm
SY3: 3σ = 4.2 nm
2006 vintage.
NIKON NSR S609B是一種高精度晶片步進器，通過使用步進透鏡、光學顯微鏡、暗場透鏡等多種標線，能夠生產出質量優良的最先進的半導體晶片。它是為生產大型集成電路（LSI）、DRAM和其他高級內存產品而設計的高度通用的光刻工具。NSR S609B是一種掃描對準晶片步進器，能夠提高步進器操作的速度和精度。這臺設備配備了高端掃描儀、基於激光的對準系統，以及允許用戶從單個終端控制和監控機器運行的通信單元。該裝置先進的電子束光學器件和高分辨率步進透鏡最大限度地提高了晶圓上產生的圖樣精度。NIKON NSR S609B的突出特點是其先進的AutoVision TM軟件,它能夠補償掩蔽過程中的錯誤對齊,並且允許用戶在各種曝光角度、入射光角度和晶圓尺寸上應用批量校正。該工具具有內置晶片監控資產，可用於檢查步進操作過程中晶片表面的完整性。NSR S609B擁有一系列廣泛的用戶友好功能和技術,例如遠程服務支持、高達0.2um的容錯、能夠使用戶利用減少的曝光時間的高速掃描,以及能夠同時處理多達五個晶片。步進器還帶有一個自動校正模型,該模型可以檢測和分析模式放置和放置精度方面的不規則性,強大的基於程序的對齊功能有助於最大程度地減少圖像失真,以及一個模式分析設備,以確保步進器以最佳的整體性能運行。為確保用戶最大限度地提高生產力，該裝置裝有200晶片卸載機和200晶片裝載機，目的是減少人工處理晶片組件所花費的不必要時間和精力。該系統還配備了一系列防止灰塵和灰塵進入腔室的防護措施，有效地幫助延長其部件的使用壽命並降低維護成本。總而言之,NIKON NSR S609B是一種可靠且功能強大的晶圓步進器,強烈建議生產高級內存產品、LSI和DRAM。NSR S609B具有高精度、先進的功能和易於使用的控件,對於那些希望獲得通用且精確的晶圓步進器的用戶來說,它無疑是一個令人印象深刻的選擇。
還沒有評論