二手 NIKON NSR S610C #9207261 待售

製造商
NIKON
模型
NSR S610C
ID: 9207261
優質的: 2007
ArF Immersion scanner Resolution: ≦ 45 nm NA: 1.30 ArF Excimer laser Reduction ratio: 1:4 Maximum exposure range: 26mm x 33mm Overlay accuracy: ≦ 6.5 nm Throughput: ≧ 130 Wafers / hour (300mm) 76 shots Main chamber Loader chamber SMIF Port FOUP Port Loader rack Front rack Rear rack Sub temperature controller Air conditioner Amplifier rack Power supply module AFB LFU 2007 vintage.
NIKON NSR S610C Stepper是一種高端晶圓步進器,它采用了真正集成的光刻方法。這個步進器採用快速的兩階段成像系統,允許使用比傳統晶圓步進器更短的曝光時間。NSR S610C Stepper利用高性能的4英寸投影鏡頭最大限度地減少失真和減少像差,確保高質量的輸出。此步進器還提供了一個獨特的切割功能,允許使用各種自定義進程。NIKON NSR S610C Stepper具有多場直接對準傳感器,可提供有關晶圓方向和位置的具體信息。此步進器還提供了廣泛的曝光劑量計算模式選項,用戶可以輕松調整輸出質量。NSR S610C Stepper采用了先進的機電一體化設計,可實現快速、精確的對齊,使用戶可以縮短周期時間。NIKON NSR S610C Stepper擁有集成的聚焦伺服控制模塊,可提供出色的可重復性,確保整個晶圓的聚焦深度得到精確控制。為了確保最小化顆粒的引入,NSR S610C Stepper采用了先進的臭氧和顆粒控制系統。此步進器提供27°C-45°C的不同水溫,以確保晶圓加工的最佳條件。NIKON NSR S610C Stepper還提供了一部分(PBP)工藝控制,具有廣泛的作業參數,每批晶片都可以存儲這些參數。NSR S610C Stepper集成了高精度SU-8激光編碼的電阻率和遙感技術,以便更輕松地控制掩蔽過程。該步進器采用環境可持續設計,采用全屏蔽等離子體排氣系統,在晶圓加工過程中方便使用有害材料。NIKON NSR S610C Stepper通過其眾多特定於應用程序的自定義模塊提供模塊化功能。這種步進技術使用戶能夠處理多種材料和尺寸廣泛的基材,使他們能夠高效率地完成高端晶圓的生產要求。NSR S610C Stepper專為高精度、速度和質量而設計,使其成為光刻應用的頂級晶片步進器。
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