二手 NIKON NSR SF120 #9227511 待售
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ID: 9227511
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
i-Line stepper, 8"-12"
Inline with ACT 12
Magnification: 1/4 Reduction
Light source: i-Line (365 nm)
Resolution: 0.28 µm
Variable lens NA: 0.50~0.62
Exposure filed size: 25-33 mm
Lens adjust: PIEZO (3-Axis)
PC Hardware:
DS10 Type
UPS
Reticle size: 6"
SIMF
Variable reticle microscope
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Multi focus system
Table leveling (VCM)
Wafer loader:
Type3
Notch
Wafer cassette
Front In-line (FOUP) + ACT 12
NC PRE2
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
(2) Indexers
Barcode reader
Particle checker (PPD3)
Control rack:
Right type
Normal cable length
Chamber:
Sendai chamber S52
CVCF NEMA
Electrical power: 208 V, 60 Hz, 3-Phase
BATC / CATC / LLTC: 23°
Options:
Front In-line FOUP
TRANS Power unit
Lamp cooling unit
illumination system:
ID1(L-NA/I-NA): (Con V 0.52/0.36)
ID2(L-NA/I-NA): (ANN 0.62/0.5)
ID3(L-NA/I-NA): (Con V 0.62/0.43)
ID4(L-NA/I-NA): (Con V 0.62/0.36)
Wafer flatness:
Maximum-Minimum: 1.580 µm
L.F Maximum: 0.440 µm
Lamp uniformity:
Power: 1224.687 mw/cm²
Uniformity: 0.780%
Lens distortion:
Minimum - maximum:
X: -0.012 - 0.013 µm
Y: -0.017 - 0.016 µm
Lens inclination:
Maximum-minimum: 0.124 µm
Curvature: 0.041 µm
AST(V-H): 0.051 µm
UR-LL: 0.026 µm
UL-LR: 0.002 µm
Illumination power source: 5.0 kW Mercury ARC lamp
2003 vintage.
NIKON NSR SF120是為高級光刻工藝設計的高性能晶圓步進器。它結合了大光圈透鏡設備的優點和全場步進器的高光彈性分辨率。這種組合使NIKON NSR-SF120能夠提供高精度的成像和最大的晶圓吞吐量,同時即使在納米級也能保持極好的可重復性。該系統配備了一個先進的控制單元,其中包括一個強大的掃描功率優化,以盡量減少過程變化。其軟件控制的光學對準使圖樣能夠在晶圓表面上精確放置,從而減少了圖樣傳遞誤差。具有較高的對準精度,可以在亞微米範圍內保持特征尺寸和叠加穩定性。NSR SF 120采用全場成像機,與單步刀具相比具有更高的圖像吞吐量。它采用高分辨率的光學元件,孔徑為0.75X,磁場尺寸為10.8mm,可容納高達7nm的臨界尺寸(CD)陣列。此外,資產還可以容納從5「到16」不等的掩碼。由於其先進的控制設備,該型號在可重復性和曝光穩定性方面提供了出色的性能。它還提供了極好的分期精度,能夠提高產量並最大限度地提高產量。NSR SF120的功能包括:用於手動或遠程操作的直觀控制臺GUI、集成的掃描和形狀測量系統、用於快速圖像傳輸的高速接口、用於改進k1均勻性的自動居中功能,以及用於減少數據開銷的內存單元。為保證高質量的光刻,該機設計了一個雙嵌入式工具直接照明控制。此資產可以使用具有固定掃描模式和可變模式移位的中心區域照明來提供分割曝光。NIKON SF120為先進的光刻工藝提供了高性能的解決方案,在這種工藝中,成像精度和圖樣精度至關重要。其優越的光學模型,加上出色的控制設備和快速的數據傳輸,使吞吐量、產量和可重復性得到提高。其高分辨率光學器件和出色的圖樣形成精度為光刻技術的成功應用提供了必要的工具。
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