二手 NIKON NSR SF120 #9361374 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9361374
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
i-Line stepper, 12"
Main body
Loader chamber
Power supply box
Lamp house cooling unit
Exposing source: i-line
Wavelength: 365 nm
Surface illumination: 1000 mW / cm²
Reduction ratio: 1:4
Wafer alignment: FIA / LSA
LC Control: 25x33 mm
Step pitch: 25 nm x 33 mm, 76-Shots, 12"
Exposure amount: 90 mJ / cm²
Reticle buffer: 14 Sheets (Maximum)
(2) Reticle load ports
Throughput:
FIA-EGA: 100 Wafer / Hour
(2) LSA-EGA: 90 Wafer / Hour
Resolution: <280 nm
Alignment accuracy: <35 nm (M+3σ)
Projection lens NA: 0.50~0.62
Lighting NA with squeezing:
I-NA: 0.43 CONV
I-NA: 0.36 CONV
I-NA: 0.50 2/3Ann
(2) VRA Angle exposure range (Scan field):
26x33 mm
25x33 mm
Options:
PPD
Particle inspection device
2D Barcode
WL Front in-line
Relay FOUP unit
2003 vintage.
NIKON NSR SF120是一種全自動晶片步進器,專為復雜的晶片處理需求而設計。此步進器提供了廣泛的功能,例如卓越的陣列對齊設備,可確保在多個晶圓級別上的準確叠加精度。5軸運動系統還能確保晶圓的精確運動，並以最小的振動來提高穩定性。NIKON NSR-SF120還提供高精度透鏡單元，產生出色的晶圓表面保真度和提高的性能。先進的光場成像軟件和光學設備也保證了出色的邊緣檢測和銳度.NSR SF 120具有可容納大多數晶圓形狀和尺寸的6英寸大視野。其高分辨率的10百萬像素相機提供了卓越的成像能力，可以在整個晶片表面進行精確、可重復的晶片沈積過程。自動晶圓校準機通過設置每個產品的最佳曝光參數來幫助減少用戶輸入。這有助於確保所有沈積過程以最佳精度進行，而無需任何人工控制。該步進器還配備了許多增強晶片處理的功能，包括基板未對準補償、缺陷模式識別和晶片級叠加預覽，以提高步進器的質量和可重復性。NSR SF120還具有理想的溫度控制,以保持晶圓加工的最佳條件.它采用高精度壓力室，有助於控制晶圓表面的溫度漂移、濕度和汙染水平。Depo期間還采用了噴氣級冷卻技術
還沒有評論