二手 NIKON NSR SF130 #9207085 待售

製造商
NIKON
模型
NSR SF130
ID: 9207085
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
i-Line stepper, 12" Reticle, 6" Wavelength: 365 nm Surface illumination (Standard): 1000 [mW/c m]/more Reduction ratio: 1 : 4 Throughput: FIA-EGA: 120 Wafer/hour or more LSA-EGA: 96 Wafer/hour or more Step pitch: 25 nm x 33 mm 76 Shots (Wafers, 12") Exposure amount: 90 mJ/c m² Resolution: 280 nm / Less Alignment accuracy: 35 nm / Less (M+ 3σ) Lighting NA: I-NA: 0.43 CONV I-NA: 0.36 CONV I-NA: 0.50 2/3Ann Projection lens NA: Variable 0.50~0.62 VRA Angle / Exposure range (Scan field): 26 x 33 mm, 25 x 33 mm Wafer alignment: FIA/LSA LC Control: Adjust only 25 x 33 mm 2004 vintage.
NIKON NSR SF130是一種高性能、高精度的晶片步進器,用於制造半導體晶片上的先進、高密度器件。它采用高分辨率、大場圖像掃描和模式對準設備,以及先進的階梯式掃描控制機制和獨特的曝光控制系統,以確保均勻準確的曝光。NIKON NSR-SF130建立在模塊化設計平臺上,在晶圓處理能力和擴展的現場大小方面具有最佳的靈活性。它配備了能夠進行非常高速掃描的光刻掃描級,檢測精度為0.0025mm,現場尺寸為5「到12」(線對),用於大模具生產。步進器具有先進的圖像傳輸單元(ITS)以確保最佳的圖像質量,具有5m像素攝像機和高達65mm的快門直徑,以實現先進的晶圓對準精度。控制工具作為一個單一的單元與照明和自動對焦組件進行高級成像。NSR SF 130利用其獨特的曝光控制資產和長反射光源提供均勻、高精度的曝光。它具有極好的場平坦度,以及先進的切割和光刻指令,能夠實現先進的光刻模式識別和優化。步進器具有圓柱形透鏡,該透鏡利用可變長寬比模型和Y軸上的對準來實現高均勻性曝光。其先進的級控制設備具有精確的晶圓對準場中心,以及增強的旋轉對準均勻曝光。NIKON NSR SF 130由一個先進的計算機平臺提供動力,具有高度強健的操作系統和軟件,保證了高性能和低維護。軟件包括一流的對齊實用程序和模式識別功能。此外,曝光控制單元確保了最佳效率,使曝光達到0.12 um尺寸線/空間的精度。它還采用了新的曝光控制技術,包括優化的階段集成、平場精度、改進的圖像質量和寬場大小。NSR SF130經SEMI SECS-II認證,符合SEMI PV2-0375。它是一種高效可靠的晶圓步進器,用於先進的光刻加工.
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