二手 NIKON NSR-TFH i14 DL #9023488 待售
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已售出
ID: 9023488
i-Line stepper, 6"
Body: i14
Wafer thickness: 1.2mm
Wafer type: Notch
Loader type: 3
Controller: VAX
GEM: Yes
Numerical aperture: 0.3-0.45
Lens data:
Distortion spec +/- 40nm
TFD spec 0.5um
AST spec 0.4um
Curvature spec 0.4um
-Pre data collection before lens optimization.
-Distortion ID1
Max vector X= 65nm, Y=51nm
Min vector X= -87nm, Y= -60nm
Reduction= 0.823
- INC ID1
TFD = 0.726
AST= 0.359
Curvature= -0.251
-Distortion ID9 (map is similar to ID1)
Max vector X= 67nm, Y=65nm
Min vector X= -69nm, Y= -57nm
Reduction= -0.742
Post data after lens optimization:
-INC ID1
TFD = 0.403
AST= 0.240
Curvature= 0.028
-Distortion ID1
Max vector X= 0.024nm, Y= 0.025nm
Min vector X= -0.043nm, Y= -0.042nm
Reduction= -0.323
-Distortion ID9
Max vector X= 43nm, Y= 32nm
Min vector X= -37nm, Y= -34nm
Reduction= 0.270
Main body is not crated
FC77 oil is in the chem support
Accessories included
Deinstalled by OEM
No lens data were collected prior to deinstall
Currently crated.
NIKON NSR-TFH i14 DL是一種晶圓步進器,設計用於半導體器件制造的光刻工藝。它旨在提供具有業界領先精度和精確度的高精度光刻工藝。NIKON NSR TFH I14DL配備了一些先進的功能,有助於提供卓越的光刻效果。其設計包括具有4軸步進變化掃描和自動調平功能的高級標線級,允許快速可靠的操作。它還包括一個高級成像場扁平透鏡,以提高整個成像場的光均勻性。集成的背面對準系統確保了晶圓的精確對準和覆蓋精度。NSR-TFH i14 DL可以曝光高達4微米的圖像,具有出色的分辨率能力。結果精確度高,聚焦深度好.先進的光學和照明系統使晶片步進器能夠有效地將最小的結構對準復雜的基板。其專有的深紫外線(DUV)功能使其即使具有最具挑戰性的功能也能顯示圖像,從而提供具有出色對比度的清晰圖像。堅固的NSR TFH I14DL結構允許延長運行壽命,而不會降低底層或外圍設備的性能。晶圓步進器采用自己的RPC建模語言和復雜的軟件界面,具有很大的靈活性,可以根據不同的處理要求進行定制。NIKON NSR-TFH i14 DL有助於減少周期時間,滿足嚴密的周轉時間,即使采用復雜的光刻工藝。提供均勻、精確的光束輪廓和光束功率,使晶圓處理時間短,工藝均勻性更好。其出色的硬件和軟件功能有助於降低擁有成本,同時允許使用最優質的基板。總體而言,NIKON NSR TFH I14DL是一種功能強大且可靠的晶圓步進器,專為設備制造而設計。其先進的光學、標線級和照明系統使視覺效果和高質量的光刻效果成為可能。晶圓步進器采用自己的RPC建模語言和復雜的軟件界面,易於配置和定制,以適應特定的應用程序要求。
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