二手 ULTRATECH 1014 #3278 待售

ULTRATECH 1014晶圓步進器是一種全場、先進的紫外線曝光工具，設計用於大體積光刻和計量生產。在先進微電子器件的開發中，這一通用平臺的設計提供了卓越的性能、質量和吞吐量。1014能夠產生0.5微米分辨率和25納米邊緣縫合精度的模式,使設備制造商能夠實現業界最高的吞吐量和生產率。其300 mm/12英寸晶圓場尺寸和5Kw/12.5Kw劑量可用性也使其適合大面積覆蓋和高密度設備。ULTRATECH 1014配備了ULTRAFOUCS技術,可實現卓越的聚焦深度（DOF）和晶圓側失真。這項技術采用了創新的「環場」透鏡系統和其他先進功能，為0.25微米的線條/空間圖案提供了經濟高效、魯棒的光刻技術。1014還被設計為提供卓越的曝光型穩定性和最大產量。支持接觸、接近和移位曝光等可變曝光類型,使用戶能夠生產缺陷較小的晶片。它還具有內置的計量系統，可實時對流程進行現場監測。ULTRATECH 1014除了具有曝光和計量能力外，還附帶了多種自動化和控制選項。利用其FLEX處理系統，用戶可以對機器進行編程，根據自己的具體要求自動調整其設置。自動化優化工具也可用於幫助開發最佳曝光條件。1014還設計了先進的視覺系統,為用戶提供晶圓生產各個方面的詳細圖像。這在檢查時特別有用，允許用戶在出現任何缺陷時迅速采取糾正措施。總體而言,ULTRATECH 1014是經過優化設計的晶圓步進器,可為用戶提供最高級別的質量、吞吐量和可靠性。其先進的成像和計量系統確保用戶能夠達到最高水平的性能、生產力和準確性。