二手 ULTRATECH 1100 #9105780 待售

ULTRATECH 1100是為制造高性能集成電路（IC）晶圓而設計的光刻機。它具有使芯片制造商能夠創建性能提高的集成電路設備的功能。該設備能夠生產出比其他步進器更小的柵極尺寸和更細的線寬的高密度模具。1100能夠光刻，分辨率高達0.12微米。它為曝光源配備了UV激光器，可用於高性能或更大。它具有創新的步驟和重復功能,可提供比以前的系統多三倍的可用字段大小。該型號還采用了一個新的激光回讀系統，允許高度精確的曝光設置。ULTRATECH 1100還有1微米或更好的定位精度，比典型的光學系統好50-100倍。這使芯片制造商能夠創建具有極高精度和可重復性的設備。該單元還安裝在高穩定性平臺上，隨著時間的推移，它以最小的漂移提供了出色的性能。該機具有柔韌性，可用於正面或背面照明模式。它旨在支持廣泛的光掩碼，可以包括接觸、非接觸和二進制類型。1100利用了先進的快門工具，還配備了全場對準能力。這樣可以確保整個晶片表面的模具放置一致且精確。此外，清除資產的設計旨在最大限度地減少空氣傳播汙染物造成的缺陷，而特征掩蔽模型允許在單個曝光序列中自動創建多層。總體而言,ULTRATECH 1100的設計非常精確、可靠且高效。有了這種設備，芯片制造商就能創造出更精確、公差更緊的IC。它還能夠生產門徑較小、線寬較細的小型設備。對於希望創建高性能設備的當今芯片制造商來說,這使得1100成為一個有吸引力的選擇。