二手 ULTRATECH 1500 MVS #9293528 待售

ID: 9293528
晶圓大小: 6"
優質的: 2000
Stepper, 6" Stage type: SERVO Driven X and Y Stepper motor driven in theta Multi-axis air bearings Laser metered Laser resolution: 40 nm Vibration control: Isolated granite table Computer: HP 362 Controller Graphics monitor Enclosed impact printer Wafer handling: Cassette to cassette autoloader Manual loader / Robotic loader Imaging and lens (1.0 µm): Resolution: 1.0 µm CD Control: 0.9 ≤ CD ≤ 1.1 µm DOF: > 3.0 µm Lens distortion: ≤ 160 nm, 100% Lens matching (A-B): ≤ 180 nm, 100% Maximum image area: 34.2 x 13.6 mm Longest rectangle: 39.0 x 11.4 mm Largest square: 18.0 x 18.0 mm Exposure spectrum: 390-450 nm Imaging and lens (0.8 µm): Resolution: 0.8 µm CD Control: 0.72 ≤ CD ≤ 0.88 µm DOF: > 2.0 µm Lens distortion: ≤ 110 nm, 100% Lens matching (A-B): ≤ 130 nm, 100% Maximum image area: 31.80 x 11.5 mm Longest rectangle: 34.0 x 10.0 mm Largest square: 15.5 x 15.5 mm Exposure spectrum: 390-450 nm Exposure (1.0 µm and 0.8 µm): Uniformity: 3.0%, 2.5% Wafer plan irradience: ≥1000 wM/cm² 2000 vintage.
ULTRATECH 1500 MVS(Micro-Atmosphere Vacuum Stepper)是一種高性能的晶圓步進器,專為光刻膠應用而設計。這種先進的設備旨在提供高分辨率光刻膠的精確對準和放置,並具有先進的成像和對準能力。適用於先進的光刻應用,包括深紫外線和EUV抗蝕劑。1500 MVS操作環境由一系列密封室與外界大氣隔離。它在室內的溫度、壓力和濕度都預設在最佳光刻條件下。這種真空環境確保了最高水平的曝光精度,同時減少了焦痕和條紋等有害缺陷。ULTRATECH 1500 MVS設有Advancers Guide System (AGS),提供自動聚焦、註冊和對準控制。該單元支持小至0.7微米的晶圓對準誤差和精確的對焦深度控制。它還包括內置光曲線檢測高斯測量機,以確保最佳圖像質量和光刻結果。1500 MVS具有Prodigy Controllers Tool和TrueMVS Advanced Acquisition軟件。該軟件設計用於將成像和光學數據快速靈活地集成到資產中。它最多支持四層,多種成像方法,幾乎任何步驟和重復程序。它還支持審查和比較來自不同掃描和曝光過程的結果的能力,提供曝光效果的快速概述。ULTRATECH 1500 MVS設計用於處理任何尺寸不超過8英寸的晶圓。此步進器的最大掃描速度為40毫米/秒,確保了生產和研究應用中的高生產率。還包括一個自動光束大小識別功能,可自動調整曝光參數以獲得最佳成像效果。1500 MVS是一個頂級的生產線,先進的晶圓步進設計,為光刻工藝提供最高分辨率的圖像。它配備了先進的步進特性、精密的控制和圖像處理能力,以及極其精確的對齊和穩定性。對於需要精確、一致的接觸結果的生產和研究設施來說,這是一個完美的選擇。
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