二手 ULTRATECH 2700 #9312331 待售

ULTRATECH 2700晶圓步進器是一種自動化和計算機化的半導體產品光刻設備。它專門設計用於將薄膜層塗在晶片上，通過一系列具有多種膠片類型和設置的透鏡和成像系統推進晶片。2700的視野為12 x 12英寸，焦點深度± 3.5 μ m。它有1至20 s的曝光時間，適合各種不同的應用。ULTRATECH 2700晶圓步進器的主要部件包括投影儀、鏡頭組、吊艙、晶圓盒、步進頭和控制電腦。投影機負責投影晶圓上的圖案，使用透鏡系統來改變視場的大小。步進頭負責以精確的方式在視場中移動晶片。吊艙用於在卡帶和步進頭之間交換晶片。晶圓盒在處理過程中用來固定晶圓。最後，控制計算機負責控制晶片的運動和管理薄膜的曝光。2700 Wafer Stepper能夠處理直徑最大為8英寸的晶片,並且能夠達到3.6 Hz （3.6曝光/秒）的速度。它可以處理多種晶圓尺寸，其先進的控制單元確保曝光時精確對準。它的板載診斷機器監視曝光並提供任何問題的反饋。其先進的熱管理工具確保資產在整個過程中保持熱穩定。最後,ULTRATECH 2700 Wafer Stepper包含一系列有用的功能,例如有助於減少因不正確的焦點調整而造成的散射的校準過程,以及允許用戶快速為特定作業設置模型的自動創建選項。它能夠處理各種類型的薄膜，包括原位散焦的加工薄膜和幹法加工薄膜。總體而言，2700 Wafer Stepper是一種專門為半導體加工而設計的先進、自動化、計算機化的光刻設備。它能夠處理直徑最大為8英寸的晶片,並在一定的曝光時間範圍內提供高精度和精確度。它的高級控制系統可確保在曝光期間精確對齊,而其有用的功能（如自動創建選項）有助於減少設置作業所花費的時間。