二手 ULTRATECH AP 300 #293595884 待售

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晶圓步進機
製造商
ULTRATECH
模型
AP 300
ID: 293595884
優質的: 2006
Stepper, 12" Standard features target: 2 µm Standard field: 44 mm x 26.7 mm Test reticle: 6 x 6 Wafer thickness handling: 0.4 mm - 2 mm Universal size / Wafer kit: 8" and 12" FOSB Cassette to cassette wafer handling PATMAX MVS Alignment system MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm Dual lamp illuminator, 1200 W GHI-Line broadband lens GHI-Line auto filter changer FOUP Wafer handler Extended field 6-Slots reticle stack manual front loading GEM HSMS Communications Environmental chamber Enhanced bottom pellicle protection Closed loop cooling Prism purge kit Dual flip aperture size: 44 mm (Largest) Power source: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wires 2006 vintage.
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ULTRATECH AP 300是專為高級光刻應用而設計的全自動晶圓步進器。它是一個3軸晶圓步進器，可以支撐高達300 mm的基材尺寸，最小化率為5：1。其最大掃描速度可達1000mm/sec，同時提供高達80000mm/s ²的加速度。ULTRATECH AP300支持兩種圖像投影模式：Knoll-Hart和Galvo。Knoll Hart模式同時投射多個激光束點，使得曝光時間更短；最大分辨率可達0.3 µm。另一方面，Galvo模式具有提供均勻強度輪廓的優勢，最大分辨率為0.7µm。此外,該設備還可以執行2D模式的高速掃描。AP 300設計有多種安全功能,可防止操作過程中的損壞。第一個安全特性是重新校準機構，它能夠在每次曝光後自動重新校準系統。這樣可以恢復原始分辨率,確保始終保持準確性。第二個特點是增強的自我保護機制；它能夠檢測光刻過程中發生的任何錯誤並立即停止該過程。AP300還配備了工業級觸摸屏,可輕松操作。它提供了完整的圖形用戶界面，允許用戶輕松查看和控制系統。此外，該單元還配備了精密的OMR界面，可以讓用戶從頭到尾監控整個過程。此外,ULTRATECH AP 300還提供了一個可定制的環境,以確保在各種照明條件下的最佳性能。這可以從標準照明到暗室條件，使用戶能夠為每個應用程序自定義環境。ULTRATECH AP300旨在為先進的光刻應用提供卓越的精度和可靠性。其高速掃描和精確激光投影使其成為研究和工業應用的理想選擇。設備先進的安全性和直觀的界面保證了任何用戶的簡單準確的操作。
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